1万吨超大规模集成电路用超净高纯试剂项目投资立项建议书（3） ㊣ 精品文档 值得下载

界污染条件下输送到级净化间中级工作台中，用事先经过洁净处理并达到要求容器分装封口后，经专用通道输出到洁净外包装间。

进入级净化间工作人员要尽量少，并严格按洁净要求动作，事先要在万级洁净间内更换防尘工作服后经风淋间淋至达到要求才能进入。

包装容器在普通洁净工作间先用纯水洗净，然后进入万级工作间进行精洗，然后由专用通道进入级净化间内，用达到要求超净高纯水漂洗至合格后，再供使用。

因此，生产超净高纯试剂必须要有下列设施级超净工作间及外围万级净化间万级净化间及在其中安装各种生产设备超净包装容器清洗设备及超净工作间超净高纯水生产设备空气及液体中尘埃颗粒测试仪器超净高纯试剂中杂质测试设备级至级。

超净厂房建设现在英寸芯片生产线，芯片线路线宽都在，需要控制以上尘埃颗粒。

需要建设级超净厂房，主要用于产品灌装和产品检测，共需要平米。

其次，为适应英寸以上芯片生产线，超净高纯试剂高要求，在级超净室内还需设置级超净工作台，核心操作都在超净工作台内完成。

这样形成逐级严格控制，更利于保证洁净度。

除上述核心部分级超净室与级超净工作台外，还必须设置更大规模与其配套万级超净室与十万级洁净室。

生产提纯设备添置现今超净高纯试剂其杂质含量已要求在级至级，在这样要求下，般采用普通玻璃设备都难以达到，必须采用优质石英玻璃来制作各种生产设备才能达到要求。

这些石英玻璃必须经过专业设计并严格控制加工过程才能制造出来。

超净包装容器自动清洗线设计安装超净高纯试剂包装容器，历来是其发展过程中瓶颈问题，很多情况下是可以生产出合格产品，但经包装后就不能使用了，除了包装容器材质选择外，严格清洗过程很有必要。

其预清洗还可以用人工参加，到最后超净阶段就在这样要求下，般采用普通玻璃设备都难以达到，必须采用优质石英玻璃来制作各种生产设备才能达到要求。

这些石英玻璃必须经过专业设计并严格控制加工过程才能制造出来。

超净包装容器自动清洗线设计安装超净高纯试剂包装容器，历来是其发展过程中瓶颈问题，很多情况下是可以生产出合格产品，但经包装后就不能使用了，除了包装容器材质选择外，严格清洗过程很有必要。

其预清洗还可以用人工参加，到最后超净阶段就不是靠手工能洗得出来了，必须设计专业清洗设备，在超净工作间内自动清洗才能达到要求。

超净高纯水生产超净高纯水主要用于生产设备清洗及包装容器中清洗，其质量好坏直接影响到超净高纯试剂产品质量。

传统超净高纯水生产工艺是采用反渗透加离子交换工艺，水质虽可达到使用要求，但离子交换工艺操作中大量使用酸碱，并生成大量酸碱废液难以处理，本项目拟采用最新技术电去离子工艺，出水质量更优，不再产生酸碱废水，运行成本更低。

分析测试仪器添置液体尘埃颗粒计数器气体尘埃颗粒计数器原子吸收光谱仪等专业分析仪器及其他许多常规分析设备，更先进等离子光谱或电感耦合等离子光谱质谱仪。

三项目建设规模及投资概算项目总目标年产吨级超净高纯试剂年产值亿元年利税亿元。

项目包括如下工程总计万元超净工作间合计万元级级超净工作间及配套设施设备，万元万级超净工作间及配套设施设备，万元万级洁净生产厂房及配套设施设备，万元。

生产设备合计万元年产吨超净高纯硫酸设备，万元年产吨超净高纯盐酸设备，万元年产吨超净高纯硝酸设备，万元年产吨超净高纯双氧水设备，万元年产吨超净高纯无水乙醇设备，万元年产吨超净高纯氨水设备，万元年产吨超净高纯甲醇设备，万元年产吨超净高纯异丙醇设备，万元年产吨超净高纯氢氟酸设备，万元年产吨超净高纯磷酸设备，万元年产吨超净高纯冰乙酸设备，万元年产吨超净高纯氟化铵设备，万元年产吨超净高纯氟化氢铵设备，万元年产吨超净高纯乙酸乙酯设备，万元年产吨超净高纯乙酸丁酯设备，万元年产吨超净高纯甲苯设备，万元年产吨超净高纯二甲苯生产设备，万元年产吨超净高纯三氯甲烷生产设备，万元年产吨超净高纯四氯化碳生产设备，万元年产吨超净高纯乙二醇生产设备，万元年产吨超净高纯三氯乙烯生产设备，万元年产吨超净高纯二氯甲烷生产设备，万元年产吨超净高纯环己烷生产设备，万无年产吨超净高纯丁酮生产设备，万元与以上各产品相对应超过滤系统，万元。

超净高纯水生产设备万元建设日产达吨超净高纯水生产设备，水质达到以上，采用电去离子技术与反渗透结合工艺，尘埃颗粒以上个。

包科技攻关计划，并由高纯试剂吨吨我国超净高纯试剂研制起步于世纪年代中期，年由北京化学试剂研究所在国内率先研制成功适合中小规模集成电路技术用种级试剂。

随着集成电路集成度不断提高，对超净高纯试剂中可溶性杂质和固体颗设计安装超净高纯试剂包装容器，历来是其发展过程中瓶颈问题，很多情况下是可以生产出合格产品，但经包装后就不能使用了，除了包装容器材质选择外，严格清洗过程很有必要。

其预清洗还可以用人工参加，到最后超净阶段于保证洁净度。

除上述核心部分级超净室与级超净工作台外，还必须设置更大规模与其配套万级超净室与十万级洁净室。

生产提纯设备添置现今超净高纯试剂其杂质含量已要求在级至级，在这样要求下，般采用普通玻璃设备都难以达到，必须采用优质石英玻璃来制作各种生产设备才能达到要求。

这些石英玻璃必须经过专业设计并严格控制加工过程才能制造出来。

超净包装容器自动清洗线设计安装超净高纯试剂包装容器，历来是其发展过程中瓶颈问题，很多情况下是可以生产出合格产品，但经包装后就不能使用了，除了包装容器材质选择外，严格清洗过程很有必要。

其预清洗还可以用人工参加，到最后超净阶段就剂耗用量将有较大幅度增长。

此外，随着国内平板显示器大发展，上广电产能将达到月，京东方产能将达到月，二厂在超净高纯试剂发展方面，与微电子技术另重要材料光刻胶相似，不同线宽芯片必须使用不同规格超净高纯试剂进行蚀刻和清洗。

超净高纯试剂质量关键在于控制其所含金属离子多少和试剂中尘埃颗粒含量，对于线宽较小超大规模集成电路，几个金属离子或灰尘就足以报废整个电路。

年，国际半导体设备与材料组织制定了国际统超净高纯试剂标准，如表所示。

目前，国际上制备到级超净高纯试剂技术都已经趋于成熟。

随着集成电路制作要求提高，对工艺中所需液体化学品纯度要求也不断提高。

技术趋势上看，满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之。

表工艺化学品国际标准等级标准金属杂质控制粒径颗粒个适应线宽范围可以看出，超净高纯试剂制备关键在于控制并达到其所要求杂质含量和颗粒度。

为使超净高纯试剂质量达到要求，需从多个方面同时予以保障，包括试剂提纯包装供应系统及分析方法等。

目前，国际上普遍使用提纯工艺有十余种，它们适用于不同成分不同要求超净高纯试剂生产，例如，蒸馏精馏连续精馏盐熔精馏共沸精馏亚沸腾蒸馏等温蒸馏减压蒸馏升华化学处理气体吸收等。

超净高纯试剂在运输过程中极易受污染，所以超净高纯试剂包装及供应方式是超净高纯试剂使用重要环。

特别是颗粒控制相关技术，它贯穿于超净高纯试剂生产运输始终，包括了环境控制工艺控制成品包装控制等各个环节。

国内外超净高纯试剂生产技术发展现状国外世纪年代便开始生产电子工业用试剂，并为微电子加工技术发展而不断开发新产品。

到目前为止，在国际上以德国公司产量及所占市场份额为最大，其次为美国公司及日本关东株式会社，另外还有美国公司英国公司前全苏化学试剂和高纯物质研究所三菱瓦斯化学伊期曼化学公司公司公司化学品公司日本化学工业公司及德山公司等。

近年来，新加坡台湾地区也相继建立了级超净高纯试剂生产基地。

目前在国际上从事超净高纯试剂研究开发及大规模生产主要有德国公司包括日本公司，占全球市场份额，美国公司市场份额公司市场份额公司市场份额，日本市场份额市场份额，另外还有日本住友合成德川三菱，我国台湾地区主要有台湾长春中华友发长新化学台硝股份及恒谊等，韩国主要有东友东进等公司。

在技术方面，美国德国日本韩国及我国台湾地区目前已经在大规模生产技术用超净高纯试剂，其中过氧化氢硫酸异丙醇等主要品种般在吨年规模，技术用超净高纯试剂也已完成前期工艺研究并形成规模生产，以下技术用工艺化学品也已完成技术研究，具备相应生产能力。

国内超净高纯试剂研发水平及生产技术水平与国际上先进技术水平相比尚有定差距，目前技术用级试剂生产技术已经成熟，并已转化为规模生产。

技术用超净高纯试剂相当于国际标准水平产业化技术基本成熟，初步形成生产规模。

技术用超净高纯试剂相当于国际标准水平工艺制备技术及分析测试技术有所突破，但由于受相关配套条件制约，产业化技术还有待进步完善。

部分产品产业化技术也将能够形成规模化生产，相关分析测试方法研究也有了较大突破，但总体上仍然受支撑条件落后配套设施基础差等客观因素制约，关键仪器设备包括容器等必须依赖进口，超净高纯试剂工艺先进技术如气体吸收离子交换膜处理技术等应用要达到国外先进水平也有定差距，这也导致真正要实现超净高纯试剂工业化规模生产存在较大差距。

我国半导体市场规模在不断扩大，年我国市场已达亿元。

年年间，平均增长率。