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现今的超净高纯试剂其杂质含量已要求在级至级，在这样的要求下， 般采用普通玻璃设备都难以达到，必须采用优质的石英玻璃来制作各种生产设 备才能达到要求。
这些石英玻璃必须经过专业设计并严格控制加工过程才能制造 出来。
超净包装容器自动清洗线的设计安装 超净高纯试剂的包装容器，历来是其发展过程中的瓶颈问题，很多情况下是 可以生产出合格产品，但经包装后就不能使用了，除了包装容器的材质的选择外， 严格的相关配套条件的制约，产业化技术还有待进步的完善。
部分产品的产业化 技术也将能够形成规模化生产，相关分析测试方法的研究也有了较大的突破，但 总体上仍然受支撑条件落后配套设施基础差等客观因素的制约，关键的仪器设 备包括容器等必须依赖进口，超净高纯试剂工艺先进技术如气体吸收离子交换 膜处理技术等的应用要达到国外的先进水平也有定的差距，这也导致真正要实 现超净高纯试剂的工业化规模生产存在较大的差距。
我国半导体市场规模在不断扩大，年我国市场已达亿元。
年年间，平均增长率。
目前国内英寸英寸毫米 生产线条，英寸线条，占国内条生产线总数的，产能已占全国的， 英寸以上高端生产线已开始成为国内芯片制造业主体。
按十二五计划新建 的生产线对于超净高纯试剂耗用量将有较大幅度增长。
此外，随着国内平板显示 器大发展，上广电产能将达到月，京东方产能将达到 月，二厂三厂建成后将达万枚月。
工艺与是类似的，需求的超净 高纯试剂也要几万吨。
在市场供应方面，目前级超净高纯试剂已经全部实现国产化， 在更高档次的超净高纯试剂供应方面，目前绝大部分需要从其他国家或地区进口， 标准水平及以上档次的产品则全部依赖进口。
进口产品的主要来源有日 本韩国美国等国家及我国的台湾地区。
表我国目前电子化学品进口量和国产产品市场占有率产品国产量进口量国产产品市场占有率 超净高纯试剂吨吨 我国超净高纯试剂的研制起步于世纪年代中期，年由北京化学试 剂研究所在国内率先研制成功适合中小规模集成电路技术用的种级 试剂。
随着集成电路集成度的不断提高，对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗 粒的控制越来越严，同时对生产环境包装方式及包装材质等提出了更高的要求。
为了满足我国集成电路发展的需求，国家自六五开始至八五，将超净高纯 试剂的研究开发列入了重点科技攻关计划，并由北京化学试剂研究所承担攻关任 务。
到目前为止，北京化学试剂研究所已相继推出了Ⅰ级Ⅱ级和Ⅲ级 超净高纯试剂，其中Ⅲ级超净高纯试剂达到国际标准的水平，适用于 工艺技术的加工制作，并在九五末期形成了年的中 试规模。
目前北京化学试剂研究所正在进行用于工艺技术的Ⅳ级 超净高纯试剂的研究开发。
进行。
超净高纯试剂本身是信息产业链中的重要环，其本身市场信息及工艺技术 信息不但量大而且变化很快，新工艺新技术也不断涌现，所以，在项目实施过程 及以后的工作中，要特别重视相关信息的收集研究及各种专业人员的提高和培养。
超净高纯试剂是需要超净的环境，所以对外部生产环境要求较高，又要求交 通相对便利。
期工程计划用地亩，二期工程计划用地亩，共计划用地 亩。
项目介绍 超净高纯试剂微电子技术的支柱 微电子技术主要是指用于半导体器件和集成电路微细加工制作的系列 蚀刻和处理技术，其中集成电路，特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技 术又是微电子技术的核心，是电子信息产业最关键最为重要的基础。
微电子技术 发展的主要途径之是通过不断缩小器件的特征尺寸，增加芯片的面积，以提高集 成度和速度。
自世纪年代后期至今，集成电路芯片的发展基本上遵循 预言的摩尔定律，即每隔年集成度增加倍，芯片的特征尺寸每年 缩小倍，芯片面积增加约倍，芯片中晶体管数增加约倍，也就是说大体上每 年就有代新的产品问世。
在国际上，年美国首先研制成功集成电路开始，尤其是世纪年代以 来，集成电路微细加工技术进入快速发展的时期，这期间相继推出了 的动态存贮器。
进入世纪年代后期，的发展 更迅速，竞争更激烈。
美国的公司公司和日本的公司这个 生产厂家的竞争尤为激烈，年公司公司均实现了
（定稿）年产10000吨超大规模集成电路用超净高纯试剂项目备案立项报告
