1、“.....公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。 在世界技术发展的同时，我国的仍以三极管为主的制版光科技束萌芽年代，沿用古老传统的照相术级显微镜缩小曝光，人工光刻，坐标值加喷黑漆铜版纸加手术刀，精度和特征尺寸为几十微米，在年，我国成立中国半导体研究所和河北半导体研究所，并且研制成功第只硅平面晶体管......”。

2、“.....并且成功研制第台第三代计算机，在此后不久我国研制了集成电路和集成电路，开发并制造第批接触式曝光小掩模板。 经过六十年代的小规模制造和技术研究，到了七十年代，微光刻技术已经基本成熟，在七十年代，大规模集成电路制造设备已经蓬勃的发展起来。 斯皮勒等发明光刻工艺研制出来了位进入时代，这个时代是以八微米工艺为代表的......”。

3、“.....建立了世界上第条英寸集成电路生产线在年半导体设备和材料国际组织举行了第次国际标准化会议，并且退出了第块微处理器外国科学家提出比例缩小定律。 随后国外相机开发出地字数曝光机，投影光刻机等关键工艺设备技术，并且在年建立世界上第条英寸集成电路生产线，在年推出世界第台机在六七十年代，我国正在经受着文革的阵痛和西方的封锁，在这场浩劫下......”。

4、“..... 我国在年成功研制出了为，在年，北京大学研制成功我国第台。 目前科学家正在探索更短波长的激光波二〇四年四月二十四日星期四长为纳米光刻技术。 由于大量的光吸收，获得用于光刻系统的新型光学及掩模衬底材料是该波段技术的主要困难。 光科技束是很多学科的综合，任何门学科的突破就能对光刻技术的发展做出巨大贡献。 图为光学光刻原理图......”。

5、“.....他在纳米制造领域中起着不可替代的作用。 电子束光刻主要是刻画微小的电路图，电路通常是以纳米微单位的随着中国纳米技术和纳米电子学的蓬勃发展,纳米加工技术的研究越来越重要,而电子束光刻二〇四年四月二十四日星期四编号第章绪论第二章......”。

6、“..... 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。 这就是光刻的作用，类似照相机照相......”。

7、“.....而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。 第二章，光刻的历史光科技束的诞生年，贝尔实验室发明第只点接触晶体管。 从此光刻技术开始了发展当时的人们已经开始了计算机的发展，人们大量利用计算机，芯片的需求量大增，许多科学家都在研究证明发展计算机，于是光刻技术迅速被人们重视，并飞速发展，不过比较遗憾的是当时我国仍处于战乱之中，制版光刻还是个空白......”。

8、“..... 光科技束的发展初级阶段在五十年代，结晶晶体管在国外诞生奥尔发明离子注入工艺，弗雷提出扩散节工艺。 在五十年代的国外，光刻技术是百花齐放。 在年制造出来世界上第架晶体管计算机，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第个适用单结构硅晶片。 新中国成立后，也很重视光刻技术的发展......”。

9、“..... 北大复旦南大厦大和东北人大等高校抽调精兵强将成立联合半导体专门化，中国科学院物理研究所成立半导体研究室。 黄昆，谢希德，林兰英，王守武等前辈开始研究光刻技术。 年我国研制出来了第根锗合金晶体管。 年我国建立第条半导体试验线研制成功锗合金三极管。 年建立了厂，这是微电子所的前身，研制的锗合金三极管和磁膜作和航空领域的发展......”。