1、“.....张寿柏编著材料制备新技术,上海上海交通大学出版社,年月杨邦朝,王文生薄膜物理与技术,电子科技大学出版点是基板温升小,要对基板加热,蒸镀效率高,能获得等薄膜可用于镀机械制品电子器件装饰品。空心阴极离子镀。利用等离子电子束加热使膜材气化依靠低压大电流的电子束碰撞使充入的气体或其它惰性气体反应气体离化。这种方法的特点是基板温升小,要对基板加热,离化率高,电子束斑较大,能镀金常用的组合方式有直流极型。利用电阻或电子束加热使膜材气化被镀基体做为阴极,利用高电压直流辉光放电将充人的气体也可充少量反应气体离化。这种方法的特点是基板温升大绕射性好附着性好,膜结构及形貌差,若用电子束加热必须用差压板可用于镀耐蚀润滑机械制品。多阴极型。利用电阻或电子束加热使膜材气化能达到的最高温度有限,加热器的寿命也较短。近年来,为了提高加热器的寿命,国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器......”。

2、“.....可采用的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制造增祸,并在表面涂上层含的错,其余为错硅合金材料。电子束蒸发源蒸镀法。离子镀膜根据不同膜材的气化方式和离浅析真空镀膜技术及发展趋势原稿了令人满意的结果。高频感应蒸发源的特点是蒸发速率大,可比电阻蒸发源大倍左右蒸发源的温度均匀稳定,不易产生飞溅现象蒸发材料是金属时,蒸发材料可产生热量。所以,甘祸可选用和蒸发材料反应最小的材料蒸发源次装料,无需送料机构,温度控制比较容易,操作比较简单。它的缺点是必须采用抗热震性好高温化学性能连续式激光器的成本较高,所以它的应用范围有定的限制,目前尚不能在工业中广泛应用。浅析真空镀膜技术及发展趋势原稿。真空蒸发镀膜法真空蒸发镀膜法简称真空蒸镀是在真空室中,加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到固体表面,凝结形成固态薄膜的方法。蒸发源是蒸发装臵的损失少......”。

3、“.....高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷增涡放在水冷的高频螺旋线圈中央,使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失对铁磁体,致使蒸发材料升温,直至气化蒸发。膜材的体积越小,感应的频率就越高。在钢带上连续真空镀铝的大型设备中,高频感应加热蒸镀工艺已经取,无需送料机构,温度控制比较容易,操作比较简单。它的缺点是必须采用抗热震性好高温化学性能稳定的氮化硼钳祸蒸发装臵必须屏蔽,并需要较复杂和昂贵的高频发生器如果线圈附近的压强超过,高频场就会使残余气体电离,使功耗增大。激光束蒸发源蒸镀法。采用激光束蒸发源的蒸镀技术是种理想的薄膜制备方法。这是由于反应,这对提高镀膜的纯度极为重要热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热效率高,热传导和热辐射的损失少。高频感应蒸发源蒸镀法。高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷增涡放在水冷的高频螺旋线圈中央......”。

4、“.....致使蒸发材料升温,直至气化蒸发。膜光器是可以安装在真空室之外,这样不但简化了真空室内部的空间布臵,减少了加热源的放气,而且还可完全避免了蒸发器对被镀材料的污染,达到了膜层纯洁的目的。此外,激光加热可以达到极高的温度,利用激光束加热能够对些合金或化合物进行闪光蒸发。这对于保证膜的成分,防止膜的分馏或分解也是极其有用的但是,由于制作大功结束语综上所述,表面和薄膜科学微电子器件及纳米技术等的迅速发展,将使仪器开发和监测方法体系研究成为真空镀膜技术中的发展重点而电子束蒸发源将是真空镀膜技术中的种重要的加热方法和发展方向。参考文献吴建生,张寿柏编著材料制备新技术,上海上海交通大学出版社,年月杨邦朝,王文生薄膜物理与技术,电子科技大学出版件进行组装所要求的平整基底......”。

5、“.....气相生成法又可以分为物理气相沉积法化学气相沉积法和放电聚合法等。本文主要介绍物理气相沉积法真空镀膜技术,由于这种方法基本上都是处于真空环境下进行的,可完全避免了蒸发器对被镀材料的污染,达到了膜层纯洁的目的。此外,激光加热可以达到极高的温度,利用激光束加热能够对些合金或化合物进行闪光蒸发。这对于保证膜的成分,防止膜的分馏或分解也是极其有用的但是,由于制作大功率连续式激光器的成本较高,所以它的应用范围有定的限制,目前尚不能在工业中广泛应用。浅析真空的关键部件,根据蒸发源不同,真空蒸发镀膜法又可以分为下列几种电阻蒸发源蒸镀法。利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机构造简单造价便宜使用可靠,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。迄今为止,在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺......”。

6、“.....这样不但简化了真空室内部的空间布臵,减少了加热源的放气,而且还可完全避免了蒸发器对被镀材料的污染,达到了膜层纯洁的目的。此外,激光加热可以达到极高的温度,利用激光束加热能够对些合金或化合物进行闪光蒸发。这对于保证膜的成分,防止膜的分馏或分解也是极其有用的但是,由于制作大功了令人满意的结果。高频感应蒸发源的特点是蒸发速率大,可比电阻蒸发源大倍左右蒸发源的温度均匀稳定,不易产生飞溅现象蒸发材料是金属时,蒸发材料可产生热量。所以,甘祸可选用和蒸发材料反应最小的材料蒸发源次装料,无需送料机构,温度控制比较容易,操作比较简单。它的缺点是必须采用抗热震性好高温化学性能加热源更大的能量密度。可在个不太小的面积达到到的功率密度,因此可以使高熔点可高达以上材料蒸发,并且能有较高的蒸发速度由于被蒸发材料是臵于水冷增祸内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应......”。

7、“.....因而热效率高,热传导和热辐浅析真空镀膜技术及发展趋势原稿此称它们为真空镀膜技术。现有微电子器件的主要材料是极纯的硅锗和稼砷等晶体半导体。纳米电子器件有可能是以有机或有机无机复合晶体薄膜为主要原料,要求纯度更高,结构更完善。真空制备的清洁环境,有希望加工组装出纳米电子器件所要求的结构。另据文献报道,利用真空镀膜技术可以制备出纳米电子器件进行组装所要求的平整基了令人满意的结果。高频感应蒸发源的特点是蒸发速率大,可比电阻蒸发源大倍左右蒸发源的温度均匀稳定,不易产生飞溅现象蒸发材料是金属时,蒸发材料可产生热量。所以,甘祸可选用和蒸发材料反应最小的材料蒸发源次装料,无需送料机构,温度控制比较容易,操作比较简单。它的缺点是必须采用抗热震性好高温化学性能与技术,电子科技大学出版社,年月日本专利昭。现有微电子器件的主要材料是极纯的硅锗和稼砷等晶体半导体......”。

8、“.....要求纯度更高,结构更完善。真空制备的清洁环境,有希望加工组装出纳米电子器件所要求的结构。另据文献报道,利用真空镀膜技术可以制备出纳米电子真空蒸发镀膜法又可以分为下列几种电阻蒸发源蒸镀法。利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机构造简单造价便宜使用可靠,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。迄今为止,在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。电阻加热方式的缺点是加热所能达到的最高温度有限,加热膜技术及发展趋势原稿。结束语综上所述,表面和薄膜科学微电子器件及纳米技术等的迅速发展,将使仪器开发和监测方法体系研究成为真空镀膜技术中的发展重点而电子束蒸发源将是真空镀膜技术中的种重要的加热方法和发展方向。参考文献吴建生,张寿柏编著材料制备新技术,上海上海交通大学出版社,年月杨邦朝......”。

9、“.....减少了加热源的放气,而且还可完全避免了蒸发器对被镀材料的污染,达到了膜层纯洁的目的。此外,激光加热可以达到极高的温度,利用激光束加热能够对些合金或化合物进行闪光蒸发。这对于保证膜的成分,防止膜的分馏或分解也是极其有用的但是,由于制作大功稳定的氮化硼钳祸蒸发装臵必须屏蔽,并需要较复杂和昂贵的高频发生器如果线圈附近的压强超过,高频场就会使残余气体电离,使功耗增大。激光束蒸发源蒸镀法。采用激光束蒸发源的蒸镀技术是种理想的薄膜制备方法。这是由于激光器是可以安装在真空室之外,这样不但简化了真空室内部的空间布臵,减少了加热源的放气,而且的损失少。高频感应蒸发源蒸镀法。高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷增涡放在水冷的高频螺旋线圈中央,使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失对铁磁体,致使蒸发材料升温,直至气化蒸发。膜材的体积越小......”。