1、“.....就要使用交叉路而言，器件的匹配对产品特性的精准度十分重要。因此，版图设计师必须熟悉些基本的方法和技巧来处理器件的匹配。无论是晶体管还是电阻和电容匹配都要遵循器件相互靠近摆放方向致以及周围环境相同的原则，以下是些常用的匹配方法。叉指匹集成电路版图设计技巧论文原稿图进行检查，如果发现存在违反设计规则的地方会在版图上标记，并显示的原因。此时，版图设计工程师就要根据提示做出相应的更改，直到没有报错为止。版图的匹配在集成电路的工艺制造时......”。

2、“.....按照从大模块到小模块的设计顺序，将各种功能模块的电路划分为个个单元，然后合理的设计这些单元内部的子模块和器件。通过先完成底层子模块级别的版图设计，再层层逐步往上，进步整合完成最上层的整个集成电刻蚀的过程中金属线会不断吸收游离的电荷从而使电位升高，如果这根金属线连接到晶体管的栅极就会因为高电位而把晶体管的栅极击穿。会检查金属的面积和栅极的面积比例，如果长金属存在天线效应，就需要利用上层金属线进行跳线或者增信号线之间不能平行着走很长的距离，彼此之间交叉的走线方式比平行着走线要好......”。

3、“.....模拟電路中的数字部分要围圈保护环进行隔离，如果有必要可以加双层的保护环。在版图设计的最初阶段就要对每个模块进与否取决于版图设计的质量。这就要求版图设计者必须对集成电路的制造工艺，电子元件的特性以及电路的工作原理有定的了解。还需要设计人员能够熟练的使用版图设计软件以提高工作效率。设计者只有具备这些专业技术能力，才能设计出面积小而要随着信息科技的迅猛发展，集成电路在应用方面的普及度也在不断的增加，而芯片尺寸也呈现出不断缩小的趋势......”。

4、“.....这就要求版图设计人员拥有更加专业的水平和更高的技能技巧论文原稿。信号线之间不能平行着走很长的距离，彼此之间交叉的走线方式比平行着走线要好。对于模块的输入和输出信号则要避免交叉。模拟電路中的数字部分要围圈保护环进行隔离，如果有必要可以加双层的保护环。需要进行对称的信号的过程中金属线会不断吸收游离的电荷从而使电位升高，如果这根金属线连接到晶体管的栅极就会因为高电位而把晶体管的栅极击穿。会检查金属的面积和栅极的面积比例，如果长金属存在天线效应......”。

5、“.....需要进行对称的信号线要尽量做到相似，这样才能使信号线上的寄生电阻相似。时钟信号线应该避免与其他信号线重叠，也要加大与其他信号线之间的间距。在电路中，遇到敏感的信号线，可以通过在两侧添加金属线接地进行保个设计流程的最后阶段，它是将电路设计转换为物理版图的设计过程，它的主要内容是根据电路设计合理的规划布局和布线。由于版图设计里面包含了整个芯片设计所有的逻辑信息和设计内容，也是芯片制造所依赖的数据基础。因此，芯片产品性能稳图进行检查......”。

6、“.....并显示的原因。此时，版图设计工程师就要根据提示做出相应的更改，直到没有报错为止。集成电路版图设计技巧论文原稿。在版图设计的最初阶段就要对每个模块进行本文通过介绍版图设计的般流程和验证方法，进步分析和探讨了集成电路版图设计的技巧。关键词集成电路版图设计技巧集成电路版图设计概述集成电路设计的流程通常包含系统设计，逻辑设计，电路设计，版图设计，以及之后的仿真。版图设计在整线要尽量做到相似，这样才能使信号线上的寄生电阻相似。时钟信号线应该避免与其他信号线重叠......”。

7、“.....在电路中，遇到敏感的信号线，可以通过在两侧添加金属线接地进行保护。集成电路版图设计技巧论文原稿。管通过接地来释放电流。验证是种电学规则检查，用于查看版图中的线路有没有短路开路和浮动结点的现象。在检测到短路后，它将会提示的坐标，版图工程师就需要根据工具的报错提示寻找问题并修改。集成电路版图设验证，以确保每个底层的模块都是符合设计规则的。否则如果等到最上层布局布线完成后，才发现模块内部有大量的就会很难修改，有的甚至会影响到整个项目的进度。检查就是指天线效应检查......”。

8、“.....版图的验证为了实现最优化和最紧凑的版图面积，就需要对版图设计的布局布线进行不断的调整和改进，与此同时还要使用验证工具对版图检查，查看是否遵守工艺设计的规则。验证是设计规则检查，是根据工艺设计规则对合的匹配模式。该模式是维的共质心阵列，这种匹配模式比维的叉指匹配模式达到的匹配度更高，工艺的失配影响更小。而且这种匹配方式布局更加紧凑和分散，多应用于晶体管的匹配或者电容的匹配，较少应用于电阻的匹配，如图所示。分层设计分叉指匹配是维共质心阵列......”。

9、“.....也应用于其他任何要求匹配的器件。以晶体管为例，当晶体管尺寸非常大的时候，要想达到良好的器件性能就需要将晶体管分割为若干个相同尺寸的小晶体管，并且进行共质心的叉指匹配定的因素，从而使得生产出来的实际芯片产品与理论上的参数存在定的工艺偏差，这种偏差就是器件的不匹配造成的。随着半导体工艺尺寸的不断缩小，导致器件不匹配和成品率降低的现象日益增多，这对电路的性能造成了很大的影响。特别是对模拟的版图设计。版图的验证为了实现最优化和最紧凑的版图面积......”。