术研究进展资源信息与工程，。工作流程所有磁控溅射镀膜的过程都可以归纳为步。从薄膜生长的角度来看，磁控溅射镀膜可以分为两种流程成核生长成膜半成膜热处理成核生长成膜主要特点相比较于传统的磁控溅射在金属表面强化中的应用论文原稿相同。新的高速溅射和自溅射技术也为该领域开创了新的应用领域。磁控溅射也在新材料新工件新功能的发现应用于提升等方面发挥着越来越重要的作用。磁控溅射因为其种种优点，未来在金属表面强化方面仍然有着重要。比如在玻璃上沉积制备金属镍薄膜，可以解决化学电度法危害环境不均匀附着性差的问题在制造业轻量化和精密化的事业当中，磁控溅射也是发挥着不可替代的作用它可以根据不同环境中设计不同功能的膜层，成倍地提技术用于许多领域，例如光学电子通讯等。金属表面强化是降低金属损耗，增加金属材料寿命，降低成本的重要技术。本文在描述磁控溅射与金属表面强化的基础上，重点阐述了磁控溅射在金属表面强化中的应用。关键词该工艺具有工序简单过程迅速零件形变微小生产效率高的优点。但它的缺点也比较明显电子束加热淬火虽然能耗低零件形变小，但是设备成本比较高技术要求复杂高频冲击感应加热对零部件精度要求极高。磁控溅射在金属表面强化中的应用论文原稿。金属表面强化方法对比常用方法及基本原理金属表面强化工艺主要是分为化学热处理高密度能量表面淬火强化表面形变强化表面覆层强化复合表面强化等方法。常用方法特点该工艺按照渗热喷涂又主要分为火焰喷涂等离子喷涂爆炸喷涂。火焰喷涂设备简单成本低，但它的喷射速度慢，粘合强度也不高等离子喷涂的焰流温度可以达到以上，能喷涂基本上所有的固态工程材料。气相沉积主要分为物理气相沉。金属表面强化方法对比常用方法及基本原理金属表面强化工艺主要是分为化学热处理高密度能量表面淬火强化表面形变强化表面覆层强化复合表面强化等方法。常用方法特点该工艺按照渗入剂在化学热处理炉内的物理状属表面强化的基础上，重点阐述了磁控溅射在金属表面强化中的应用。关键词磁控溅射表面强化铝合金强化镁合金强化溅射技术从年格洛夫发现阴极溅射开始发展，上世纪年代到现在，磁控溅射技术已经在表面技术领域有磁控溅射在金属表面强化中的应用论文原稿剂在化学热处理炉内的物理状态分类可以分为固体渗液体渗气体渗固体渗的方法比较简便，但是生产效率比较低。气体渗对于所用的渗剂有定的要求，它必须能易于分解为活性原子经济易控制无污染深层性能较好。应用。因为轴承工作环境相对苛刻，因此轴承钢的原材料要求十分严格。摩擦和磨损是轴承钢的主要失效原因之。而磁控溅射镀膜则可以极大幅度地改善钢材的性能，提高它的耐磨能力，比如较常见的钛膜。磁控溅射在金的因素及作用机理研究贵州大学学报，郭燕，张俊金属材料表面改性及强化技术研究进展资源信息与工程，。摘要磁控溅射是在近似真空的环境下，利用低压气体放电产生的正离子在电场作用下轰击靶材，使溅射出来和化学气相沉积，两者都是在不断发展并且被广泛应用的技术。磁控溅射在金属强化中的典型应用轴承钢轴承钢是种十分重要的的冶金产品，在制造柴油机油泵的精密部件滚动轴承的精密量具机床丝杠滚珠等具有的广泛的分类可以分为固体渗液体渗气体渗固体渗的方法比较简便，但是生产效率比较低。气体渗对于所用的渗剂有定的要求，它必须能易于分解为活性原子经济易控制无污染深层性能较好。该技术主要分为热喷涂和气相沉积技术举足轻重的地位。该工艺具有工序简单过程迅速零件形变微小生产效率高的优点。但它的缺点也比较明显电子束加热淬火虽然能耗低零件形变小，但是设备成本比较高技术要求复杂高频冲击感应加热对零部件精度要求极高的原子沉积在基片上的过程。它有低温高速低损伤的特点，且镀膜的质量高。该技术用于许多领域，例如光学电子通讯等。金属表面强化是降低金属损耗，增加金属材料寿命，降低成本的重要技术。本文在描述磁控溅射与磁控溅射在金属表面强化中的应用论文原稿。磁控溅射因为其种种优点，未来在金属表面强化方面仍然有着重要的研究价值和广阔的应用前景。参考文献余东海，王成勇，成晓玲，等磁控溅射镀膜技术的发展真空，郝正同，谢泉，杨子义磁控溅射法中影响薄膜生可替代的作用它可以根据不同环境中设计不同功能的膜层，成倍地提高了材料的性价比。总结与展望总之，磁控溅射因为其低温高速低损伤和镀膜质量高的优点而成为工业镀膜的主要方式之，其种类也越来越多，非平衡磁膜方式，磁控溅射镀膜可以用作靶材的材料很多，基本上所有的金属材料合金材料陶瓷材料都可以用。磁控溅射还可以同时进行多种靶材的共同溅射，使镀上的合金膜比例更加精确。磁控溅射在金属表面强化中的应用论研究价值和广阔的应用前景。参考文献余东海，王成勇，成晓玲，等磁控溅射镀膜技术的发展真空，郝正同，谢泉，杨子义磁控溅射法中影响薄膜生长的因素及作用机理研究贵州大学学报，郭燕，张俊金属材料表面改了材料的性价比。总结与展望总之，磁控溅射因为其低温高速低损伤和镀膜质量高的优点而成为工业镀膜的主要方式之，其种类也越来越多，非平衡磁溅射多靶闭合式非平衡磁控溅射中频溅射脉冲溅射，它们的优缺点也各控溅射表面强化铝合金强化镁合金强化溅射技术从年格洛夫发现阴极溅射开始发展，上世纪年代到现在，磁控溅射技术已经在表面技术领域有了举足轻重的地位。其他磁控溅射在在其它材料表面沉积薄膜的应用也十分广泛属表面强化中的应用论文原稿。摘要磁控溅射是在近似真空的环境下，利用低压气体放电产生的正离子在电场作用下轰击靶材，使溅射出来的原子沉积在基片上的过程。它有低温高速低损伤的特点，且镀膜的质量高。