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【图纸论文】电极片的冲孔落料弯曲连续模设计【CAD图纸整套】 【图纸论文】电极片的冲孔落料弯曲连续模设计【CAD图纸整套】

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间每个光的过程,增加了全过程的成本和时间。虽然技术,具有批量生产强的优点,它是不适合微型模具和微型系统原型制造所需要的柔性加工。为了实现无成本效益和灵活的加工,使用口罩,许多技术已经开发出来。在化工机械扫描探针光刻的过程以前开发的,薄薄的光阻层选择性去除探针尖端的原子力显微镜的化学蚀刻硅或金属表面上制作微沟槽模式。作为抵抗层,已利用的材料,如二氧化硅和自组装膜为抵御化学腐蚀的能力。光阻去除尖端的切削作用下不断施加负荷。负载调整就可以实现所需的深度,使切。经过加工,制作模式是有选择性化学蚀刻,光阻已被删除的地区。三维结构,以及各种线条图案,可以制作成功由过程。制作模式的尺寸取决于探头尖大小,厚度的抵制,抵制加工过程中的应用负载。例如,利用原子力显微镜在几十纳米尺度的加工能力,同时提供几十微米或更大的模式可以使用轴精密驱动器的个尖锐的触笔结合的工具类型捏造。虽然几十微米和数百个纳米的沟槽图案宽度可以达到使用过程,在毫米范围内的模式不能制造足够的可靠性。应用于硅工件制作的微米大小的图案当过程,小丘往往形成,而不是沟槽。遇到这种现象时,光阻层是薄和正常负载是比较高的,因为刀尖可以很容易地穿透抵抗层之间的锐利尖端和硅衬底,但不那么容易在溶液中,硅反之亦然。此外,的是耐和氢氧化钾腐蚀剂控制蚀刻条件下几分钟。图显示了利用作为次要抵制层的的修改过程制备硅格局。图所示硅工件表面涂上后,机械加工和化学蚀刻前与的和。可以看出,的表面加工线深度小于。因此,它是最有可能的尖端没有穿透的光阻层。然而,即使在尖端穿透抵抗层的情况下,尖端和硅衬底之间的机械相互作用弱,不会造成岗形成。图。和,很显然,氢氧化钾蚀刻后,在毫米范围内槽的宽度模式可以成功制作没有任何小丘形成。表显示了从两个不同的应用的正常负载获得的沟槽图案的宽度和深度。小丘的形成是可以预防的工具和硅衬底之间的直接接触,因为可以在机械加工过程中避免。也就是说,磨料互动仅限于二氧化矽的主抵抗为目的层内。当蚀刻被用来去除二氧化硅抵制层暴露在硅衬底,层担任作为抵制对蚀刻层和周边地区成功地保护了被腐蚀。此外,当溶液被用来格局的硅衬底,连同二氧化硅抵制保护其余地区领先的硅槽模式的成功制造。在加工应用中使用修改的进程为了证明修改过程的优点,号码不同的线宽毫米和毫米,是制造硅工件如图图案数字可以通过编程工具的路径。此外,通过控制施加的机械加工过程中的正常负荷,图案的宽度可以在所需的位置变化。应用的正常负载和由此产生的图案宽度之间的关系是建立在套独立的实验。这种关系是相当非线性是很难预测理论。然而,相当贯宽度可以得到下个给定的应用负载。宽度为毫米的正常负荷万被应用于如前。宽度为毫米的正常负荷万应用。在图像显示,交界处的数字和应用负载改变工具的方向增加至百万到制作较厚的线宽是相当完整。这表明的修改过程的能力,通过刀具路径编程和正常负荷控制的硅表面上制作实际出发,多动点手去做,把前人的只是经验变成自己的力量。摸着石头过河是我们初学者必须要的精神,只有自己动手了,的会改正,正确的继续发扬,这样才符合毕业设计的要求。老师是我们做毕业设计的最好导航,无论在做设计数据筛选,加工工艺遇上的种种问题我们自己不能解决都需要老师的帮助。老师具备专业的知识和过硬的事迹操作经验,是我们在机械制造业中航行的指明灯,老师不会什么都亲手的帮我们做好,他主要的工作是指引我们,启发我们。授之以鱼不入授之以渔,以老师的话来说亲手帮你做好了次,下次遇到同样的问题,你们还是不会解决,那不是等于没有教,出去外面没有人帮你的忙岂不是不会做了,你们要学会独立思考,提高自己的学习能力。毕业设计毕竟是个较为漫长的过程,其中有苦有乐,每当我们灰心意志消沉时得到老师的鼓励,我们都会信心大增,每当做出的成绩能换来老师个微笑,我们都会感到心满意足,彼此的交流让我们师生的感情更融洽。人们说美好景色在顶峰,人克服困难换来成功的喜悦才是最幸福的事。毕业设计做完了,画上个完美的句号,也尝到成功的味道,但漫漫的人生路还需要继续努力。面对日趋激烈的就业形势,我们相信只要学好知识技术,以种刻苦勤劳的精神对待工作,我们定会活出不平凡的人生。致谢首先,我要特别感谢我的指导老师,他对我毕业设计给予了很多的指导,花费了很多的心血,使我最后圆满完成了毕业设计。在张老师的悉心教导下的这段时间里,他严谨的治学态度,渊博的知识,正直的人格,给我留下了极深的印象,为我今后的工作生活树立了良好的榜样。其次,我还要感谢我的同学,在毕业设计过程给予我很大的帮助,在我不懂的时候,他们总是耐心的给我讲解,同样使我受益匪浅。最后,我要感谢所有帮助过我的人,在这里真诚的说声谢谢参考文献濮良贵,纪名刚机械设计北京高等教育出版社,成大先机械设计手册版卷北京化学工业出版社雷天觉新编液压工程手册北京北京理工大学出版社孙桓,陈作模,葛文杰机械原理北京高等教育出版社第七版明仁雄液压传动与气压传动北京国防工业出版社杜玉湘,陆启建,刘明灯五轴联动数控机床的结构和应用机械制造与自动化,丛凤廷等组合机床设计北京机械工业出版社刘潭玉,黄素华,熊逸珍画法几何及机械制图长沙湖南大学出版社戴曙金属切削机床北京机械工业出版社温松明主编互换性与测量技术基础长沙湖南大学出版社使用和二氧化硅涂料预防小丘形成二氧化硅和薄膜硅片的加工特性采用双涂层系统的可行性进行了研究,目的是消除不良的山丘。最外层的涂层被用来作为牺牲层膜,这反过来又服务模式硅。选择性地去除微加工涂层,和化学蚀刻工艺去除层建立在硅衬底上的模式。这个过程中,可以成功地制备槽的宽度约的模式,在硅片上,没有形成不良的山丘。介绍已制定相关的微机电系统温度的各种技术,在硅基材料制作的微型模式和结构。然而,这些技术,需要大量的设备和成本高,在参与设立制造工厂。此外,它通常是必要的面具,使各种沟槽宽度约毫米的模式。图结论当正常的百万或更高负荷传统过程中用来制造硅工件的范围在毫米宽的沟模式,容易形成不良山丘。岗形成的机制是由于工具和硅衬底导致接触区域被转化为溶液,具有很高的耐硅相之的直有者可委派财务会计人员进行会计监督,当然也可委派财务总监进行财务监督,以增加对经营者的直接监控。财务总监可设在监事会。财务总监的主要职责可包括建立健全用人单位的财务管理控制制度监督用人单位国有资产保值增值情况和重大财务收支活动的合法性合理性效益性,防止侵犯投资者合法权益行为的发生配合外部监督机构和社会中介组织对用人单位进行的检查审计等活动培训用人单位的财务人员等。财务总监的主要权限可包括参与拟定用人单位的年度财务预决算方案利润分配方案和亏损弥补方案,以及发行有价证券的方案等对重大财务收支项目要同用人单位主要负责人联签审批审核用人单位的投资可行性报告和重要经济合同参加用人单位重要的董事会会议和行政会议。有权纠正董事会总经理做出的损害国家和单位经济利益的行为。成立会计师协会,加强行业自律。应借鉴注册会计师进行行业自律的办法,相应成立会计师协会,所有从事会计职业的人员都必须加入会计师协会,以利加强对从业人员的管理。因为委派的会计人员毕竟占少数,因此,由会计师协会加强对全国会计人员的管理是很有必要的。参考文献李玲对企业推行会计委派制的思考财会研究,国家财经法纪,并按有关会计准则和制度的规定作帐监督检查用人单位的财产保管收发计量验证等情况审核用人单位会计资料的真实性合法性,有权拒受不真实不合法的原始凭证,对记载不准确不完整的原始凭证予以退回,要求更正补充参与拟定用人单位的年度财务预决算方案利润分配方案和亏损弥补方案组织用人单位全体会计人员的业务培训和后续教育等。另外,委派的会计机构负责人的工作权限还应包括对重大财务收支项目要同用人单位主要负责人联签审批审核用人单位的投资可行性报告和重要经济合同参加用人单位重要的董事会会议和行政会议建议用人单位聘用般的会计人员,对不称职和没有会计证的会计人员,有权拒绝其从事会计工作。为了便于对委派的财务会计人员进行管理,还应对其实行定期报告定期述职业绩考核定期培训等制度。定期报告制度是指,规定委派会计人员定期向会计管理部门报告用人单位的重大财务收支问题。定期述职制度是指,规定委派会计人员定期向会计管理部门提交述职报告,详细汇报其工作情况,述职报告必须经用人单位签署意见。业绩考核制度是指,会计管理部门对委派会计人员进行定期考核,考核结果作为奖惩和是否继续委派以及升迁晋职的依据。会计管理部门应制定合理的考核标准,应实行定性和定量相结合的办法。对委派会计人员的考核还应结合用人单位的意见,对用人单位可分为管理当局般工作人员两个层次,对委派会计人员进行无记名测评。对故意违反财经法纪和职业道德要求,情节严重的,吊销其会计证,撤消其专业任职资格,依法追究其法律责任,会计管理部门,由其按照企事业单位的营业范围和规模,决定是否需要委派会计人员以及委派的人数。用人单位需持有与委派会计人员签订的协议书,才能办理相关登记手续。会计信息失真的治理是个综合治理工程,不能奢望通过单途径就可彻底解决问题。实行财务会计委派制必须与完善公司治理结构政企分开加大惩治间每个光的过程,增加了全过程的成本和时间。虽然技术,具有批量生产强的优点,它是不适合微型模具和微型系统原型制造所需要的柔性加工。为了实现无成本效益和灵活的加工,使用口罩,许多技术已经开发出来。在化工机械扫描探针光刻的过程以前开发的,薄薄的光阻层选择性去除探针尖端的原子力显微镜的化学蚀刻硅或金属表面上制作微沟槽模式。作为抵抗层,已利用的材料,如二氧化硅和自组装膜为抵御化学腐蚀的能力。光阻去除尖端的切削作用下不断施加负荷。负载调整就可以实现所需的深度,使切。经过加工,制作模式是有选择性化学蚀刻,光阻已被删除的地区。三维结构,以及各种线条图案,可以制作成功由过程。制作模式的尺寸取决于探头尖大小,厚度的抵制,抵制加工过程中的应用负载。例如,利用原子力显微镜在几十纳米尺度的加工能力,同时提供几十微米或更大的模式可以使用轴精密驱动器的个尖锐的触笔结合的工具类型捏造。虽然几十微米和数百个纳米的沟槽图案宽度可以达到使用过程,在毫米范围内的模式不能制造足够的可靠性。应用于硅工件制作的微米大小的图案当过程,小丘往往形成,而不是沟槽。遇到这种现象时,光阻层是薄和正常负载是比较高的,因为刀尖可以很容易地穿透抵抗层之间的锐利尖端和硅衬底,但不那么容易在溶液中,硅反之亦然。此外,的是耐和氢氧化钾腐蚀剂控制蚀刻条件下几分钟。图显示了利用作为次要抵制层的的修改过程制备硅格局。图所示硅工件表面涂上后,机械加工和化学蚀刻前与的和。可以看出,的表面加工线深度小于。因此,它是最有可能的尖端没有穿透的光阻层。然而,即使在尖端穿透抵抗层的情况下,尖端和硅衬底之间的机械相互作用弱,不会造成岗形成。图。和,很显然,氢氧化钾蚀刻后,在毫米范围内槽的宽度模式可以成功制作没有任何小丘形成。表显示了从两个不同的应用的正常负载获得的沟槽图案的宽度和深度。小丘的形成是可以预防的工具和硅衬底之间的直接接触,因为可以在机械加工过程中避免。也就是说,磨料互动仅限于二氧化矽的主抵抗为目的层内。当蚀刻被用来去除二氧化硅抵制层暴露在硅衬底,层担任作为抵制对蚀刻层和周边地区成功地保护了被腐蚀。此外,当溶液被用来格局的硅衬底,连同二氧化硅抵制保护其余地区领先的硅槽模式的成功制造。在加工应用中使用修改的进程为了证明修改过程的优点,号码不同的线宽毫米和毫米,是制造硅工件如图图案数字可以通过编程工具的路径。此外,通过控制施加的机械加工过程中的正常负荷,图案的宽度可以在所需的位置变化。应用的正常负载和由此产生的图案宽度之间的关系是建立在套独立的实验。这种关系是相当非线性是很难预测理论。然而,相当贯宽度可以得到下个给定的应用负载。宽度为毫米的正常负荷万被应用于如前。宽度为毫米的正常负荷万应用。在图像显示,交界处的数字和应用负载改变工具的方向增加至百万到制作较厚的线宽是相当完整。这表明的修改过程的能力,通过刀具路径编程和正常负荷控制的硅表面上制作实际出发,多动点手去做,把前人的只是经验变成自己的力量。摸着石头过河是我们初学者必须要的精神,只
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