1、“.....由于满足∞和的条件，因此中心中心为相对磁导率，取值为与的下降规律如下在查阅了大量文献资料后，磁铁材料选用，内磁铁截面尺寸，外磁条截面尺寸分别为，。传动装置的设计矩形平面移动溅射靶的设计由于该材料磁铁密度与接近，可近似的取其密度为本设计的传动装置是通过电机丝杠来带动阴极靶，丝杠的主要受力来自阴极靶带来的剪切力，扭力并没有太大影响，因此只需校核剪切应力强度即可。丝杠使用材料，安全系数为许用应力为保证安装方便以及阴极靶的运动能够覆盖到整个靶材表面，取丝杠长度为。同时，为保证安全，在丝杠的末端添加固定装置。由于所需功率要求不是很高，可以选择功率较小的电机......”。

2、“.....真空室选泵的计算粗算主泵抽速初选系统极限工作压强，根据经验公式可知系统有效抽速为其中，为抽速，为真空室体积，式中，为真空室内径，为真空室的高计算可得粗选型分子泵抽速为极限真空流导计算矩形平面移动溅射靶的设计分子泵口径为，与真空室之间连接口径为的管道,管道总长度为,中间有个插板阀。总的流导为管道以及插板阀的串联流导。确定气体沿管道的流动状态。真空室工作压力为时，分子泵入口压力很低，所以管口的压力可以忽略，管路中的平均压力，此时所以，管道中为分子流管道流导为插板阀的流导查表得所以，总流导精算主泵抽速考虑管道流导，主泵对真空室的有效抽速所得结果与初算时的抽速相差很小......”。

3、“.....前级泵的计算分子泵的前级压力为，所以，根据第机械工业部制定的标准所推荐的前级泵选取型机械泵。流导的计算选取排气口管道为直径的管道，长约为，因为分子泵出口压力，机械泵进口压力要比低得多，计算管道中平均压力方应翠老师作为我的指导老师，她治学严谨，学识渊博，视野广阔，为我营造了种良好的学术氛围。置身其间，耳濡目染，潜移默化，使我不仅接受了全新的思想观念，树立了明确的学术目标，领会了基本的思考方式，掌握了通用的研究方法，而且还明白了许多待人接物与为人处世的道理。其严以律己宽以待人的崇高风范，朴实无华平易近人的人格魅力，与无微不至感人至深的人文关怀，令人如沐春风，倍感温馨。正是由于她在百忙之中多次审阅全文，对细节进行修改......”。

4、“.....本文才得以成型。由于移动靶方面的资料很少很少，所以在刚开始的设计过程中就遇到了巨大的阻碍，有时感觉不知道从何下手，在方老师的耐心教导下，我查阅了大量的资料，虽然没有关于移动靶的具体研究，但是参考了这些资料，激发了我自己的许多灵感。后来就各种想法进行更进步的思考，后来在每次讨论时，方老师就我自己的想法给出宝贵的意见，这为我后面设计的继续进行非常重要。在此特向方应翠老师致以衷心的谢意,向她无可挑剔的敬业精神严谨认真的治学态度深厚的专业修养和平易近人的待人方式表示深深的敬意,矩形平面移动溅射靶的设计参考文献达道安真空设计手册第版北京国防工业出版社,张以忱真空镀膜设备方应翠陈长琦矩形平面磁控溅射阴极的磁场模拟及结构设计......”。

5、“.....邢丽芬矩形平面靶磁场分析及薄膜厚度模拟真空获得设备真空镀膜技术此时所以，管道中为粘滞流。流导前级泵抽速的粗算主泵名义抽速为时的最大工作压强大主泵出口的最大排气压强反主泵的最大排气量大前级泵抽速矩形平面移动溅射靶的设计反前级泵抽速的粗算反所得结果与粗算中相差很少，所以说明所选的前级泵符合要求......”。

6、“.....故高真空抽气时间矩形平面移动溅射靶的设计结论本文设计的矩形平面移动溅射靶在定程度上解决了靶材利用率低的问题。可以将传统溅射过程中的靶材利用率提高至甚至更高，这在工业上具有重大的意义。虽然在以前已经有类似的思想，但是并没有在文献和实际生产过程中看到相关的实例，也希望本设计可以从新的角度为镀膜领域带来新的思维方向。不过在设计的过程中也还有些问题需要以后继续研究，进步提高靶材的利用率。由于在平时的学习中并没有将重点放在磁控溅射方面......”。

7、“.....在设计的过程中忽视了很多问题，比如可以通过改变磁极形状，优化磁场，使用异型磁铁来增加水平磁场强度。希望能进步研究出更简单可行的方法再次提高靶材利用率与膜层均匀性。矩形平面移动溅射靶的设计致谢在本文的撰写过程中室内热源的红外辐射又不能通过玻璃辐射出去，这在高纬度地区也可以达到保温节能的目的......”。

8、“.....真空镀膜技术在国内外的发展状况公司的分流设计,它通过在靶和磁极之间放置矩形平面移动溅射靶的设计定形状的铁磁体垫片,使得靶面附近的磁场分布更加均匀,延长了靶的寿命,提高了靶材的利用率,并使得溅射过程更加的稳定。实验证明,增加了垫片以后沟槽的深度是以前的,靶材的利用率提高了同时，溅射过程参量变得更加稳定。但是这种设计会降低磁通的利用率和靶面附近的磁场强度,溅射速率会有所下降。公司还提出了种表面增强剥蚀技术,它通过事先在靶面上刻蚀定形状的沟槽来达到提高靶面剥蚀均匀性和靶材利用率的目的同时发现......”。

9、“.....不足之处是提高了成本,并且不同设备之间靶材的通用性不好的智能阴极技术,最初是出于提高膜层均匀性和靶材利用率的考虑,现在它主要用在视频高密光盘和数字化视频光盘等光学存储设备膜层的镀制上。不同于典型的溅射沉积,在采用智能阴极的设备中磁场并不是静态的,它可以由工程人员在生产过程中随时优化调节。为此专门在电极室中设计了两个电磁线圈,通过调节溅射功率,溅射时间和流过线圈的电流,可以优化整个溅射过程。溅射镀膜过程分为两步,通过两次镀膜的叠加获得具有相当均匀性的膜层每步中的沉积轮廓可以通过调节两线圈的电流来方便地实现。提高了靶材的利用率,延长了靶的寿命,在相当程度上改善了膜层质量通过调节两步中的线圈电流,几乎可以优化任何种新材料的镀制......”。