不断提高,对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗 粒的控制越来越严,同时对生产环境包装方式及包装材质等提出了更高的要求。 为区。 表我国目前电子化学品进口量和国产产品市场占有率产品国产量进口量国产产品市场占有率 超净高纯试剂吨吨 我国超净高纯试剂的研制起步于世纪年代中期,年由北京化学试 剂研究所在国内率先研制成功现国产化， 在更高档次的超净高纯试剂供应方面，目前绝大部分需要从其他国家或地区进口， 标准水平及以上档次的产品则全部依赖进口。 进口产品的主要来源有日 本韩国美国等国家及我国的台湾地产能将达到月，京东方产能将达到 月，二厂三厂建成后将达万枚月。 工艺与是类似的，需求的超净 高纯试剂也要几万吨。 在市场供应方面，目前级超净高纯试剂已经全部实产能已占全国的， 英寸以上高端生产线已开始成为国内芯片制造业主体。 按十二五计划新建 的生产线对于超净高纯试剂耗用量将有较大幅度增长。 此外，随着国内平板显示 器大发展，上广电高纯试剂的工业化规模生产存在较大的差距。 我国半导体市场规模果依其性质可以分为无机酸类如盐酸硝酸硫酸氢氟 酸磷酸等无机碱类如氨水等有机溶剂类如无水乙醇冰乙酸三 氯乙烯丙酮等和其他超净高纯试剂如双氧水氟化氢铵等。 有关资料显 示，超净高纯有机溶剂在半导体工业中的消耗比例大致占，其中有机类化 学品的需求量在微电子化学品中占总体积的以上，市场需求量相当可观。 在超净高纯试剂的发展方面，与微电子技术另重要材料光刻胶相似，不 同线宽的芯片必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗。 超净高纯试剂 的质量关键在于控制其所含的金属离子的多少和试剂中尘埃颗粒的含量，对于线 宽较小的超大规模集成电路，几个金属离子或灰尘就足以报废整个电路。 年，国际半导体设备与材料组织制定了国际统的超净高纯试 剂标准，如表所示。 目前，国际上制备到级超净高纯试剂的 技术都已经趋于成熟。 随着集成电路制作要求的提高，对工艺中所需的液体化学 品纯度的要求也不断提高。 技术趋势上看，满足纳米级集成电路加工需求是超净 高纯试剂今后发展方向之。 表工艺化学品国际标准等级 标准 金属杂质 控制粒径 颗粒个 适应线宽范围 可以看出，超净高纯试剂制备的关键在于控制并达到其所要求的杂质含量和 颗粒度。 为使超净高纯试剂的质量达到要求，需从多个方面同时予以保障，包括 试剂的提纯包装供应系统及分析方法等。 目前，国际上普遍使用的提纯工艺 有十余种，它们适用于不同成分不同要求的超净高纯试剂的生产，例如，蒸馏 精馏连续精馏盐熔精馏共沸精馏亚沸腾蒸馏等温蒸馏减压蒸馏升 华化学处理气体吸收等。 超净高纯试剂在运输过程中极易受污染，所以超净 高纯试剂的包装及供应方式是超净高纯试剂使用的重要环。 特别是颗粒控制的 相关技术，它贯穿于超净高纯试剂生产运输的始终，包括了环境控制工艺控 制成品包装控制等各个环节。 国内外超净高纯试剂生产技术发展现状国外世纪年代便开始生产电子工业用试剂,并为微电子加工技术的发展 而不断开发新的产品。 到目前为止,在国际上以德国公司的产量及所占市 场份额为最大,其次为美国公司及日本的关东株式会社,另外还有 美国的公司英国的公司前全苏化学试剂和高纯物 质研究所三菱瓦斯化学伊期曼化学公司公司公 司化学品公司日本化学工业公司及德山公司等。 近年来,新加坡台湾地 区也相继建立了级的超净高纯试剂生产基地。 目前在国际上从事超净高纯试剂的研究开发及大规模生产的主要有德国的 公司包括日本的公司，占全球市场份额，美国的 公司市场份额公司市场份额 公司市场份额，日本的市场份额市场份额， 另外还有日本住友合成德川三菱，我国台湾地区主要有台湾