1、超声清洗成品测试入库配料根据拉单晶的电阻率要求，按重量比例配置原料。装炉将配好的原料装入炉内抽真空和充氩气。拉晶加温将原料溶化，按控制程序拉制单晶。单晶生长当硅熔体的温度稳定之后，将籽晶慢慢浸入硅熔体中，然后将籽晶快速向上提升，使长成的籽晶的直径缩小到定的大小，产生零位错的晶体，这样，长完细颈之后，降低温度与拉速，使得晶体的直径渐渐增长到所要大小。长完细颈和肩部之后，借着拉速与温度的不断调整，可使晶棒直径误差维持在正负之间，这段直径固定的部分称为等径部分，单晶硅片取自于等径部分。等径结束后，必须将晶棒的直径慢慢缩小，直到成尖点，而与液面分开，长完的晶棒被升至上炉室冷却段时间后取出，即完成了单晶硅棒的生长过程。拆炉待炉温冷却后，将炉内坩埚及余料取出。断头尾目的是切除单晶硅棒的头部尾部及超。

2、作台通过脱胶取下硅片。硅片清洗甩干清洗硅片并进行甩干。样片测试测试合格，包装入库。产品目标市场本项目产品全部内销。主要设备选型主要设备仪器选择本项目的工艺设备选型原则在保证产品质量和生产能力以及研究发展的前提下，选择性价比高的工艺设备。主要设备和仪器本项目共需购置工艺及辅助设备仪器台套，共计万元。其中进口设备仪器台套，进口费用万元国产设备仪器台套，费用万元。详细各期设备清单如下表期进口工艺设备仪器表序号设备名称数量制造厂家及型号单价万元总价万元开方机切片机日本切片机日本全自动硅片分选机非接触电阻率测试仪傅立叶红外光普仪红外探伤仪平面厚度仪合计表期国产工艺设备仪器表序号设备名称数量制造厂家及型号单价万元总价万元打磨机硅料清槽泡料槽气相光普分析仪单晶炉单晶带锯截断机电阻率测试仪型号测试仪单。

3、为主生产区层为单晶炉炉体放置区，二楼为单晶炉上半部分操作区。除生产区外，还布置有生产管理更衣，以及生产配套的空调机房车间变配电等。另外，车间还考虑有般物品库，包括暂存间物料入口等，以利于物料的传输暂存。切片石墨热场籽晶氢氧化钠硝酸氢氟酸乙醇氩气等。硅料处理使用定量的少量乙醇和活性济等化学品，在生产需要加强化学品的管理与安全。单晶硅拉制中使用的单晶炉设备内部温度高达千多度，必须有大量稳定的冷却水保证设备和工作人员的安全。本项目生产工艺流程如下图单晶硅棒生产工艺流程图图单晶硅片生产工艺流程图工艺简介选料将多晶硅头尾料埚底料按类分选。清洗用氢氟酸硝酸或中性清洗液等除去原料表面的杂质。选料清洗测试断头尾拆炉拉晶配料装炉入库硅棒准备圆棒切方硅片清洗烘干硅片脱胶取样线锯切片晶棒粘接滚磨准方棒腐蚀或。

4、在正负之间，这段直径固定的部分称为等径部分，单晶硅片取自于等径部分。等径结束后，必须将晶棒的直径慢慢缩小，直到成尖点，而与液面分开，长完的晶棒被升至上炉室冷却段时间后取出，即完成了单晶硅棒的生长过程。硅棒准备圆棒切方硅片清洗烘干硅片脱胶取样线锯切片晶棒粘接滚磨准方棒腐蚀或超声清洗成品测试入库拆炉待炉温冷却后，将炉内坩埚及余料取出。断头尾目的是切除单晶硅棒的头部尾部及超出客户规格的部分，并将单晶硅棒分段成切片设备可以处理的长度。测试取样测试氧碳含量及电阻率等。圆棒切方滚磨将硅圆棒切成准四方型把四角的圆弧滚磨光滑。超声波清洗将方棒清洗干净。晶棒粘接将准方形的单晶硅棒粘接在专用工作台上。线锯切片将工作台装到多线切片机上，多线切片机进行切片，切片结束后，从多线切片机卸下工作台。硅片脱胶取样从工。

5、要的人流出入口，另外四个出入口分别位于三块用地的交界路上，为主要的货物出入口。在厂房的四周设计的环形道路，供消防和物流使用。综合楼等相关生活设施位于用地西南角，与生产设施相对隔离。变电站位于期用地西北角，靠近市政供电线路。废水处理站位于二期用地西北角，靠近黄太路，离主要废水排放点洗料厂房和切片厂房较近，便于废水就近排放和综合治理。各期分设动力中心动力站及水池，并靠近各期的负荷中心，节约能源。综合仓库位于二期用地东侧，靠近主要物流出入口，且与生产车间较近，有利于物料传输。土建主要建筑物洗晶车间栋洗晶车间为单层钢筋混凝土框架结构建筑，层高米。长，宽。单晶厂房栋单晶厂房均为二层钢筋砼框架结构，钢筋混凝土屋顶，层层高米，二层米建筑火灾危险类别为丁类层主要为单晶炉下半部分以及变压器泵等，建筑面积。

6、出客户规格的部分，并将单晶硅棒分段成切片设备可以处理的长度。测试取样测试氧碳含量及电阻率等。圆棒切方滚磨将硅圆棒切成准四方型把四角的圆弧滚磨光滑。超声波清洗将方棒清洗干净。晶棒粘接将准方形的单晶硅棒粘接在专用工作台上。线锯切片将工作台装到多线切片机上，多线切片机进行切片，切片结束后，从多线切片机卸下工作台。硅片脱胶取样从工作台通过脱胶取下硅片。硅片清洗甩干清洗硅片并进行甩干。样片测试测试合格，包装入库。污染物及其治理措施主要产生污染的环节废气本项目产生废气主要为酸碱性废气普通废气和热废气。单晶炉等使用电能作热源的设备需要排出热废气。酸碱性废气主要是多晶硅料和单晶硅在各类酸和碱中进行化学清洗工艺中产生，以酸性气体为主要成分，主要污染物有少量乙醇等。废水生活污废水职工洗手冲洗厕所时产生的部。

7、晶少子寿命仪晶相显微镜倒角机单晶辊磨机废线切割机砂浆搅拌桶超声波清洗机硅块脱胶槽平板电炉全自动脱胶机全自动硅片清洗机全自动插片机型号测试仪平面厚度仪合计表二期进口工艺设备仪器表序号设备名称数量制造厂家及型号单价万元总价万元开方机切片机切片机全自动硅片分选机非接触电阻率测试仪傅立叶红外光普仪红外探伤仪平面厚度仪合计表二期国产工艺设备仪器表序号设备名称数量制造厂家及型号单价万元总价万元打磨机硅料清槽泡料槽气相光普分析仪单晶炉单晶带锯截断机电阻率测试仪型号测试仪单晶少子寿命仪晶相显微镜倒角机单晶辊磨机废线切割机砂浆搅拌桶超声波清洗机硅块脱胶槽平板电炉全自动脱胶机全自动硅片清洗机全自动插片机型号测试仪平面厚度仪合计表三期进口工艺设备仪器表序号设备名称数量制造厂家及型号单价万元总价万元开方机切片。

8、次沉淀槽收集水池中和排放槽。污泥污泥浓缩池上清液回流至含氟废水调节池污泥泵板框压滤机滤液回流至含氟废水调节池泥饼含作为特种垃圾由专业公司处理。含酸碱废水调节池污水提升泵第中和槽第二中和槽污水监测池若不达标，回流至调节池厂区污水管道。纯水设备反洗排水除含酸碱废水排入酸碱废水处理系统直接排入厂区污水管道。冷却塔排污废水直接排入厂区污水管道。蒸汽凝结水废水，在降温池内利用纯水站的浓水，使出水水温降至以下，再排入厂区内的污水管道。废液由于酸碱废液产生量较少，故与清洗后的酸碱废水混合进行中和处理。高浓度酸废液调节池反应槽加反应槽加混凝剂凝聚槽加混凝剂沉淀槽收集水池含氟废水调节池。固体废物本项目所需员工共计人，产生生活垃圾定期送垃圾填埋场处理。多晶料处理过程中产生的多晶硅废料和硅单晶硅生产中产生的。

9、机切片机全自动硅片分选机非接触电阻率测试仪傅立叶红外光普仪红外探伤仪平面厚度仪合计表三期国产工艺设备仪器表序号设备名称数量制造厂家及型号单价万元总价万元打磨机硅料清槽泡料槽气相光普分析仪单晶炉单晶带锯截断机电阻率测试仪型号测试仪单晶少子寿命仪晶相显微镜倒角机单晶辊磨机废线切割机砂浆搅拌桶超声波清洗机硅块脱胶槽平板电炉全自动脱胶机全自动硅片清洗机全自动插片机型号测试仪平面厚度仪合计配套工程设计方案总平面布置本项目采用次规划，分期实施的原则建设，总规划用地亩，总建筑面积平方米。其中期工程用地亩，总建筑面积平方米，位于规划用地的东侧二期工程用地亩，总建筑面积平方米，位于规划用地的中部三期工程用地亩，位于规划用地的西侧，总建筑面积平方米。项目用地内设置个出入口，其中主入口位于期用地的北面，为主。

10、置排风系统直接排放。酸碱性废气通过排气管送到废气洗涤塔处理，达到排放标准后排放。各处污染物排放可以达到大气污染物综合排放标准表中的二级标准，分别由高出屋面的高排气筒排放。废水生活污废水系统生活污水经厂区内的化粪池处理后，达级排放标准后排入厂区污水管道，其他生活废水直接排入厂区内的污水管道，经汇集后排入市政污水管网最终进入城市污水处理厂。生产废水排放标准其中氟含量低于国标污水综合排放标准中第二类污染物最高允许排放浓度，其他污染物达到国标污水综合排放标准中的新建厂房三级标准的要求。本工程生产废水主要污染物为硅粉氟酸碱。分别经絮凝沉淀与中和处理后排入市政污水管道系统。含氟废水调节池次反应槽加次反应槽加混凝剂次凝聚槽加混凝剂次沉淀槽二次反应槽加二次反应槽加二次反应槽加混凝剂二次凝聚槽加混凝剂二。

11、单晶废料由本公司回收再利用。破废的坩埚，硅废料等由专业公司回收。废水处理设施污泥定期清理送垃圾填埋场处理。噪声治理方案为降低室内的噪音，空调排风等均采用低噪音设备。建筑物外墙门窗均采用密闭性能好的双层铝合金中空玻璃窗以减少噪声的传播。建设项目空压站房等高噪声房间室内采用隔声和吸声材料，同时设置隔声门窗，设置操作人员值班室，确保厂房的隔声量达到以上。室外洗涤塔冷却塔选择低噪声设备，且设减振台座，并辅以消声设施，以减少噪声及振动。减少对周围声环境的影响。经厂房隔声和距离衰减，厂界噪声值可以达到工业企业厂界噪声标准Ⅲ类标准。绿化厂区的绿化不但是环境保护及城市规划部门的要求，而且对生产也产生不利影响。绿化设计采取普遍绿化重点绿化和美化相结合的措施。环境保护管理机构建立推行管理体系，以达到国际环。

12、分生活污水。生产废水多晶硅料处理切断开方后的清洗等工艺中，对多晶料和单晶硅通过少量乙醇等化学品进行腐蚀清洗，产生酸碱废水氟废水。冷却塔排污废水。蒸汽凝结热废水。纯水站内离子交换树脂用酸碱反冲再生后的冲洗水，含等污染物。废液酸碱废液多晶硅料和单晶硅进行化学清洗工序中须使用少量乙醇溶液，将分别产生低浓度废酸液和废碱液。废液多晶硅料和单晶硅腐蚀等工艺都有使用溶液，使用后的废液定期更换。固废员工生活垃圾。多晶料处理过程中会产生多晶硅废料破废的坩埚，单晶硅生产中会产生切割废料。废水处理设施将产生的定量的污泥。噪声本项目噪声设备主要为生产设备水泵风机等，各类设备均安装在车间或室内。主要产生污染的环节废气本项目产生废气主要为普通废气热废气酸碱性废气。普通废气和热废气为轻微污染，对人体危害小，可通过设。

参考资料：

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