1、“.....而改为可控化学腐蚀方法，如各向异性腐蚀凸角补偿和法等，化学腐蚀方法，可做到工艺稳定，硅杯尺寸很小，膜片均匀度很高，结构从形形双岛发展到梁膜式，性能和生产率都有很大提高。传感器集成化包括两种定义，是同功能多元件并列化，即将同类型单个传感元件用集成工艺在同平面上排列起来，排成维为线性传感器，图象传感器就属于这种情况。集成化另个定义是多功能体化，即将传感器与放大运算以及温度补偿等环节体化，组装成个器件。转换，以满足单片机接口需要。技术概况及发展趋势基于传感器在本设计中重要作用，下面介绍下传感器技术性能以及发展趋势。传感器技术性能差动技术差动技术是传感器中普遍采用技术。它应用可显著地减小温度变化电源波动外界干扰等对传感器精度影响，抵消了共模误差，减小非线性误差等。不少传感器由于采用了差动技术，还可使灵敏度增大。平均技术在传感器中普遍采用平均技术可产生平均效应......”。

2、“.....其输出则是这些单元输出平均值，若将每个单元可能带来误差均可看作随机误差且服从正态分布，根据误差理论，总误差将减小。可见，在传感器中利用平均技术不仅可使传感器误差减小，且可增大信号量，即增大传感器灵敏度。光栅磁栅容栅感应同步器等传感器，由于其本身工作原理决定有多个传感单元参与工作，可取得明显误差平均效应效果。这也是这类传感器固有优点。另外，误差平均效应对些工艺性缺陷造成误差同样起到弥补作用。在懂得这种道理之后，设计时在结构允许情况下，适当增多传感单元数，可收到很好效果。例如圆光栅传感器，若让全部栅线都同时参与工作，设计成全接收形式，误差平均效应就可较充分地发挥出来。补偿与修正技术补偿与修正技术在传感器中得到了广泛应用。这种技术运用大致是针对下列两种情况。种是针对传感器本身特性，另种是针对传感器工作条件或外界环境。对于传感器特性，可以找出误差变化规律......”。

3、“.....采用适当方法加以补偿或修正。针对传感器工作条件或外界环境进行误差补偿，也是提高传感器精度有力技术措施。不少传感器对温度敏感，由于温度变化引起误差十分可观。为了解决这个问题，必要时可以控制温度，搞恒温装置，但往往费用太高，或使用现场不允许。而在传感器内引入温度误差补偿又常常是可行。这时应找出温度对测量值影响规律，然后引入温度补偿措施。在激光式传感器中，常常把激光波长作为标准尺度，而波长受温度气压温度影响，在精度要求较高情况下，就需要根据这些外界环境情况进行误差修正才能满足要求。补偿与修正，可以利用电子线路硬件来解决，也可以采用微型计算机通过软件来实现。屏蔽隔离与干扰抑制传感器大都要在现场工作，现场条件往往是难以充分预料，有时是极其恶劣。各种外界因素要影响传感器精度与各有关性能。为了减小测量误差，保证其原有性能，就应设法削弱或消除外界因素对传感器影响......”。

4、“.....对于电磁干扰，可以采用屏蔽隔离措施，也可用滤波等方法抑制。对于如温度湿度机械振动气压声压辐射甚至气流等，可采用相应隔离措施，如隔热密封隔振等，或者在变换成为电量后对干扰信号进行分离或抑制，减小其影响。稳定性处理传感器作为长期测量或反复使用器件，其稳定性显得特别重要，其重要性甚至胜过精度指标，尤其是对那些很难或无法定期鉴定场合。造成传感器性能不稳定原因是随着时间推移和环境条件变化，构成传感器各种材料与元器件性能将发生变化。为了提高传感器性能稳定性，应该对材料元器件或传感器整体进行必要稳定性处理。如结构材料时效处理冰冷处理永磁材料时间老化温度老化机械老化及交流稳磁处理，电气元件老化筛选等。在使用传感器时，若测量要求较高，必要时也应对附加调整元件，后续电路关键元器件进行老化处理......”。

5、“.....不仅取决于专业技术水平材料使用，还取决于工艺等很多方面。对于新型工艺使用在发展新型传感器中，离不开新工艺采用。新工艺含义范围很广，这里主要指与发展新兴传感器联系特别密切微细加工技术。该技术又称微机械加工技术，是近年来随着集成电路工艺发展起来，它是离子束电子束分子束激光束和化学刻蚀等用于微电子加工技术，目前已越来越多地用于传感器领域，例如溅射蒸镀等离子体刻蚀化学气体淀积外延扩散腐蚀光刻等，迄今已有大量采用上述工艺制成传感器国内外报道。以应变式传感器为例。应变片可分为体型应变片金属箔式应变片扩散型应变片和薄膜应变片，而薄膜应变片则是今后发展趋势，这主要是由于近年来薄膜工艺发展迅速，除采用真空淀积高频溅射外，还发展了磁控溅射等离子体增强化学汽相淀积金属有机化合物化学汽相淀积分子束外延光技术，这些对传感器发展起了很大推动作用。如目前常见溅射型应变计......”。

6、“.....这种应变计厚度很薄，大约为传统箔式应变计十分之以下，故又称薄膜应变计。溅射型应变计主要优点是可靠性好，精度高，容易做成高阻抗小型应变计，无迟滞和蠕变现象，具有良好耐热性和冲击性能等。用化学气相淀积法制备薄膜，以其成膜温度低可靠性好系统简单等优点而发展很快，在制备多晶硅微晶硅传感器方面有许多报道。硅杯是力敏元件中非常重要结构。目前已极少采用机械方法加工硅杯，而改为可控化学腐蚀方法，如各向异性腐蚀凸角补偿和法等，化学腐蚀方法，可做到工艺稳定，硅杯尺寸很小，膜片均匀度很高，结构从形形双岛发展到梁膜式，性能和生产率都有很大提高。传感器集成化包括两种定义，是同功能多元件并列化，即将同类型单个传感元件用集成工艺在同平面上排列起来，排成维为线性传感器，图象传感器就属于这种情况。集成化另个定义是多功能体化，即将传感器与放大运算以及温度补偿等环节体化，组装成个器件。......”。

7、“.....型，指针型出口参数无功能描述在具体位置显示字符串，以结束，是列号，是行号显示第行，从第个位置开始显示第二行，从第个位置开始初始化定时器工作方式初始化定时器值初始化定时器值启动定时器启动定时器定时器使能定时器使能总中断允许显示清屏标志到清标志计算频率值循环八次将八个显示换冲区清零计算每位数值缓冲区循环六次将数值缓冲区中数存入显示缓冲区循环六次循环八次将八个显示换冲区清零计算每位数值缓冲区循环六次将数值缓冲区中数存入显示缓冲区次计数值清零脉冲计数值清零计数值清零计数值清零再次启动下次计数定时器中断，满个脉冲，则重新规定计数初值为如果满足个，即到定时器停止时间标志位清零标志位置转换，以满足单片机接口需要。技术概况及发展趋势基于传感器在本设计中重要作用，下面介绍下传感器技术性能以及发展趋势。传感器技术性能差动技术差动技术是传感器中普遍采用技术......”。

8、“.....抵消了共模误差，减小非线性误差等。不少传感器由于采用了差动技术，还可使灵敏度增大。平均技术在传感器中普遍采用平均技术可产生平均效应，其原理是利用若干个传感单元同时感受被测量，其输出则是这些单元输出平均值，若将每个单元可能带来误差均可看作随机误差且服从正态分布，根据误差理论，总误差将减小。可见，在传感器中利用平均技术不仅可使传感器误差减小，且可增大信号量，即增大传感器灵敏度。光栅磁栅容栅感应同步器等传感器，由于其本身工作原理决定有多个传感单元参与工作，可取得明显误差平均效应效果。这也是这类传感器固有优点。另外，误差平均效应对些工艺性缺陷造成误摘要气压计被广泛应用于国防领域工业领域医疗领域以及我们日常家庭生活中。本设计中就介绍了种气压实时显示设备。它是利用软硬件基础知识，通过单片机与气压传感器结合，使得在液晶显示器上显示出当前大气压值......”。

9、“.....设计是基于气压传感器精密数字气压计系统。通过气压传感器获得与大气压相对应模拟电压值，并经过电压频率转换模块转换为数字脉冲，通过单片机接收该脉冲信号，得到单位时间内获得脉冲数，依据电压与频率线性关系式计算出所对应实际气压值，最后在单片机控制下由液晶显示电路显示出实际气压值......”。