BD18P1万吨超大规模集成电路用超净高纯试剂项目18页可行性报告范文.doc文档

技术用超净高纯试剂相当于国际标准水平的工艺制备技术及分析测试技术有所突破，但由于受相关配套条件的制约，产业化技术还有待进步的完善。

部分产品的产业化技术也将能够形成规模化生产，相关分析测试方法的研究也有了较大的突破，但总体上仍然受支撑条件落后配套设施基础差等客观因素的制约，关键的仪器设备包括容器等必须依赖进口，超净高纯试剂工艺先进技术如气体吸收离子超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率电性能及可靠性均有十分重要的影响。

模集成电路即俗称的芯片制作过程中的关键性基础化工材料之，主要用于芯片的清洗蚀刻，另外超净高纯试剂还用于芯片掺杂和沉淀工艺。

在国际上通称为工艺化学品，美欧和中国台湾地区又称湿化学品，是超大规术的发展将会加速，半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级换代以适应新的市场要求。

超净高纯试剂未经允许，请勿外传，的月开始批量生产。

因此，专家们认为世界半导体工艺技率先成功研发出的半导体工艺技术，现已开始接受全球各地厂商的订货，并将于年核准通过，归档资料。

到年上半年，公司实现了技术的生产化，而到年的季度末，日本的公司宣布突破了工艺技术的难关，公司公司均实现了技术的生产化，紧接着公司在年底又实现了技术的生产化，公司也在紧追不舍。

美国的公司公司和日本的公司这个生产厂家的竞争尤为激烈，年的动态存贮器。

进入世纪年代后期，的发展更迅速，竞争更激烈。

在国际上，年美国首先研制成功集成电路开始，尤其是世纪年代以来，集成电路微细加工技术进入快速发展的时期，这期间相继推出了缩小倍，芯片面积增加约倍，芯片中晶体管数增加约倍，也就是说大体上每年就有代新的产品问世。

自世纪年代后期至今，集成电路芯片的发展基本上遵循预言的摩尔定律，即每隔年集成度增加倍，芯片的特征尺寸每年微电子技术发展的主要途径之是通过不断缩小器件的特征尺寸，增加芯片的面积，以提高集成度和速度。

微细加工制作的系列蚀刻和处理技术，其中集成电路，特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技术又是微电子技术的核心，是电子信息产业最关键最为重要的基础。

项目介绍超净高纯试剂微电子技术的支柱微电子技术主要是指用于半导体器件和集成电路微细加工制作的系列蚀刻和处理技术，其中集成电路，特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技术又是微电子技术的核心，是电子信息产业最关键最为重要的基础。

微电子技术发展的主要途径之是通过不断缩小器件的特征尺寸，增加芯片的面积，以提高集成度和速度。

自世纪年代后期至今，集成电路芯片的发展基本上遵循预言的摩尔定律，即每隔年集成度增加倍，芯片的特征尺寸每年缩小倍，芯片面积增加约倍，芯片中晶体管数增加约倍，也就是说大体上每年就有代新的产品问世。

在国际上，年美国首先研制成功集成电路开始，尤其是世纪年代以来，集成电路微细加工技术进入快速发展的时期，这期间相继推出了，的动态存贮器。

进入世纪年代后期，的发展更迅速，竞争更激烈。

美国的公司公司和日本的公司这个生产厂家的竞争尤为激烈，年公司公司均实现了技术的生产化，紧接着公司在年底又实现了技术的生产化，公司也在紧追不舍。

到年上半年，公司实现了技术的生产化，而到年的季度末，日本的公司宣布突破了工艺技术的难关，率先成功研发出的半导体工艺技术，现已开始接受全球各地厂商的订货，并将于年核准通过，归档资料。

未经允许，请勿外传，的月开始批量生产。

因此，专家们认为世界半导体工艺技术的发展将会加速，半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级换代以适应新的市场要求。

超净高纯试剂在国际上通称为工艺化学品，美欧和中国台湾地区又称湿化学品，是超大规模集成电路即俗称的芯片制作过程中的关键性基础化工材料之，主要用于芯片的清洗蚀刻，另外超净高纯试剂还用于芯片掺杂和沉淀工艺。

超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率电性能及可靠性均有十分重要的影响。

超净高纯试剂具有品种多用量大技术要求高贮存有效期短和腐蚀性强等特点，它基于微电子技术的发展而产生，代产品需要代的超净高纯试剂与之配套。

它随着微电子技术的发展而同步或超前发展，同时它又对微电子技术的发展起着制约作用。

依照超净高纯试剂的用途，可以将其划分为光刻胶配套试剂湿法蚀刻剂和湿法工艺试剂。

如果依其性质可以分为无机酸类如盐酸硝酸硫酸氢氟酸磷酸等无机碱类如氨水等有机溶剂类如无水乙醇冰乙酸三氯乙烯丙酮等和其他超净高纯试剂如双氧水氟化氢铵等。

有关资料显示，超净高纯有机溶剂在半导体工业中的消耗比例大致占，其中有机类化学品的需求量在微电子化学品中占总体积的以上，市场需求量相当可观。

在超净高纯试剂的发展方面，与微电子技术另重要材料光刻胶相似，不同线宽的芯片必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗。

超净高纯试剂的质量关键在于控制其所含的金属离子的多少和试剂中尘埃颗粒的含量，对于线宽较小的超大规模集成电路，几个金属离子或灰尘就足以报废整个电路。

年，国际半导体设备与材料组织制定了国际统的超净高纯试剂标准，如表所示。

目前，国际上制备到级超净高纯试剂的技术都已经趋于成熟。

随着集成电路制作要求的提高，对工艺中所需的液体化学品纯度的要求也不断提高。

技术趋势上看，满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之。

表工艺化学品国际标准等级标准金属杂质控制粒径颗粒个适应线宽范围可以看出，超净高纯试剂制备的关键在于控制并达到其所要求的杂质含量和颗粒度。

为使超净高纯试剂的质量达到要求，需从多个方面同时予以保障，包括试剂的提纯包装供应系统及分析方法等。

目前，国际上普遍使用的提纯工艺有十余种，它们适用于不同成分不同要求的超净高纯试剂的生产，例如，蒸馏精馏连续精馏盐熔精馏共沸精馏亚沸腾蒸馏等温蒸馏减压蒸馏升华化学处理气体吸收等。

超净高纯试剂在运输过程中极易受污染，所以超净高纯试剂的包装及供应方式是超净高纯试剂使用的重要环。

特别是颗粒控制的相关技术，它贯穿于超净高纯试剂生产运输的始终，包括了环境控制工艺控制成品包装控制等各个环节。

国内外超净高纯试剂生产技术发展现状国外世纪年代便开始生产电子工业用试剂，并为微电子加工技术的发展而不断开发新的产品。

到目前为止，在国际上以德国公司的产量及所占市场份额为最大，其次为美国公司及日本的关东株式会社，另外还有美国的公司英国的公司前全苏化学试剂和高纯物质研究所三菱瓦斯化学伊期曼化学公司公司公司化学品公司日本化学工业公司及德山公司等。

近年来，新加坡台湾地区也相继建立了级的超净高纯试剂生产基地。

目前在国际上从事超净高纯试剂的研究开发及大规模生产的主要有德国的公司包括日本的公司，占全球市场份额，美国的公司市场份额公司市场份额公司市场份额，日本的市场份额市场份额，另外还有日本住友合成德川三菱，我国台湾地区主要有台湾长春中华友发长新化学台硝股份及恒谊等，韩国主要有东友东进等公司。

在技术方面，美国德国日本韩国及我国台湾地区目前已经在大规模生产技术用的超净高纯试剂，其中的过氧化氢硫酸异丙醇等主要品种般在吨年的规模，技术用超净高纯试剂也已完成前期的工艺研究并形成规模生产，以下技术用工艺化学品也已完成技术研究，具备相应的生产能力。

国内超净高纯试剂的研发水平及生产技术水平与国际上的先进技术水平相比尚有定的差距，目前技术用级试剂的生产技术已经成熟，并已转化为规模生产。

技术用超净高纯试剂相当于国际标准水平的产业化技术基本成熟，初步形成生产规模。

技术用超净高纯试剂相当于国际标准水平的工艺制备技术及分析测试技术有所突破，但由于受相关配套条件的制约，产业化技术还有待进步的完善。

部分产品的产业化技术也将能够形成规模化生产，相关分析测试方法的研究也有了较大的突破，但总体上仍然受支撑条件落后配套设施基础差等客观因素的制约，关键的仪器设备包括容器等必须依赖进口，超净高纯试剂工艺先进技术如气体吸收离子交换膜处理技术等的应用要达到国外的先进水平也有定的差距，这也导致真正要实现超净高纯试剂的工业化规模生产存在较大的差距。

我国半导体市场规模在不断扩大，年我国市场已达亿元。

年年间，平均增长率。

目前国内英寸英寸毫米生产线条，英寸线条，占国内条生产线总数的，产能已占全国的，英寸以上高端生产线已开始成为国内芯片制造业主体。

按十二五计划新建的生产线对于超净高纯试剂耗用量将有较大幅度增长。

此外，随着国内平板显示器大发展，上广电产能将达到月，京东方产能将达到月，二厂三厂建成后将达万枚月。

工艺与是类似的，需求的超净高纯试剂也要几万吨。

在市场供应方面，目前级超净高纯试剂已经全部实现国产化，在更高档次的超净高纯试剂供应方面，目前绝大部分需要从其他国家或地区进口，标准水平及以上档次的产品则全部依赖进口。

进口产品的主要来源有日本韩国美国等国家及我国的台湾地区。

表我国目前电子化学品进口量和国产产品市场占有率产品国产量进口量国产产品市场占有率超净高纯试剂吨吨我国超净高纯试剂的研制起步于世纪年代中期，年由北京化学试剂研究所在国内率先研制成功适合中小规模集成电路技术用的种级试剂。

随着集成电路集成度的不断提高，对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗粒的控制越来越严，同时对生产环境包装方式及包装材质等提出了更高的要求。

为了满足我国集成电路发展的需求，国家自六五开始至八五，将超净高纯试剂的研究开发列入了重点科技攻关计划，并由北京化学试剂研究所承担攻关任务。

到目前为止，北京化学试剂研究所已相继推出了Ⅰ级Ⅱ级和Ⅲ级超净高纯试剂，其中Ⅲ级超净高纯试剂达到国际标准的水平，适用于工艺技术的加工制作，并在九五末期形成了年的中试规模。

目前北京化学试剂研究所正在进行用于工艺技术的Ⅳ级超净高纯试剂的研究开发。

十五期间，国家科技部将用超净高纯试剂研究课题列入了超大规模集成电路配套材料重大专项计划之