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具体的施测过程参见附图建筑物的定位测量。
建筑物的定位测量。
准备好测量所需要的辅助工具和材料。
例如钢卷尺把钢卷尺把磅锤把羊角锤把红油漆桶带稀料毛笔支红蓝铅笔把水泥钉盒水泥钉盒铁锹把木桩若干。
三建筑物的定位和轴线控制字丝的中丝⊥竖轴水准管轴∥视准轴,保证≯。
电子经纬仪的检测项目是水准管轴⊥竖轴,应保证气泡偏离零点≯半格十字丝的竖丝⊥横轴视准轴⊥横轴横轴⊥竖轴。
字丝的中丝⊥竖轴水准管轴∥视准轴,保证≯。
电子经纬仪的检测项目是水准管轴⊥竖轴,应保证气泡偏离零点≯半格十字丝的竖丝⊥横轴视准轴⊥横轴横轴⊥竖轴。
准备好测量所需要的辅助工具和材料。
例如钢卷尺把钢卷尺把磅锤把羊角锤把红油漆桶带稀料毛笔支红蓝铅笔把水泥钉盒水泥钉盒铁锹把木桩若干。
三建筑物的定位和轴线控制桩的测设建筑物的定位本工程中规划测量部门已将建筑控制点施测完毕,所以根据控制点的坐标和拟建建筑物坐标,本工程的定位可以采用极坐标法进行施测。
具体的施测过程参见附图建筑物的定位测量。
建筑物的定位测量精度要求如下距离测量角度测量测量方法精度要求测量方法精度要求往返测量取平均值测距相对中误差盘左盘右分中定点测角中误差建筑物轴线控制桩的布设根据本工程的结构形式和施工现场的实际情况,确定在轴轴轴轴轴轴轴轴轴轴轴布设轴线控制点,这样可以使各轴线既相互制约又相互联系,便于检查和复核。
轴线控制桩的布置如下图四现场施工水准点的建立本工程现场施工水准点的引测依据为业主和测绘部门指定的控制点,我方将采用指定控制点向施工现场内引测施工水准点的标高。
为保证建筑物竖向施工的精度要求及观测的方便,在现场内布设四个施工水准点。
水准点布设在通视良好的位置,距离基坑边线大致在左右,可与建筑物些轴线控制点在同位置设置并进行保护,初步定出四个水准点,布设成闭合水准路线,其闭合差不应超过为测站数或为测线长度,以为单位。
五以下施工测量平面放样测量基坑开挖线。
对于基坑开挖,首先根据轴线控制桩投测出建筑物的外墙轴线,然后根据开挖线与外墙轴线的尺寸关系放样出开挖线,并撒白灰线作为标志。
基础轴线投测。
待垫层浇筑完毕后,将基础垫层清扫干净,利用地面上的轴线控制网进行地下室基础部分轴线的投测。
将仪器架设在控制桩位上,把控制轴线投测到作业面上,经检查无误,然后以控制线为基准,以设计图纸为依据,放样出其他轴线和柱边线洞口边线等细部尺寸线。
基础放线尺寸允许偏差如下表所示长度宽度允许偏差注轴线的对角线尺寸的允许偏差应为边长偏差的倍外廓轴线夹角的允许偏差应为。
以下结构标高值待测楼层基准点标高值水准仪在钢尺读数水准仪在钢尺读数水准仪在塔尺读数水准仪在塔尺读数标高的竖向传递要求。
应从首层起始标高线竖直量取,且每栋建筑应由三处分别向上传递。
当三个点的标高差值小于时,应取其平均值否则应重新引测。
标高的竖向传递允许偏差应符合下表规定项目允许偏差每层总高七建筑物的沉降观测根据规范规定,对于层以上或造型复杂的层以上的建筑物,应进行沉降观测,并应符合现行行业标准建筑变形测量规程的有关规定。
故根据本工程特点,须进行上传递。
当三个点的标高差值小于时,应取其平均值否则应重新引测。
标高的竖向传递允许偏差应符合下表规定项目允许偏差每层总高七建筑物的沉降观测根据规范规定,对于层以上或造型复杂的层以上的建筑物,应进行沉降观测,并应符合现行行业标准建筑变形测量规程的有关规定。
故根据本工程特点,须进行建筑物的沉降观测。
沉降观测点的设置为了能够全面反映建筑物地基变形特征并结合地质情况及建筑物结构特点,确定在层建筑物外围混凝土柱上设置个沉降观测点。
观测点具体布置如下图沉降观测点观测水准点图例说明沉降观测点的测量过程建筑物施工阶段的观测。
应随施工进度及时进行,地下室封顶后观测次,以上部分每增加层观测次。
如果施工过程中出现暂时停工,在停工时及重新开工时各观测次,停工期间,可每隔个月观测次。
在施工过程中,如,第三年后每年观测次,直至稳定为止。
沉降是否进入稳定阶段,应由沉降量与时间关系曲线判定。
若沉降速度小于,可以认为已进入稳定阶段。
观测方法。
对于高层建筑的沉降观测,应采用精密水准仪用Ⅱ等果出现长时间连续降雨基础四周大量积水等情况应增加观测次数。
当建筑物突然发生大量沉降不均匀沉降或严重裂缝时,应立即进入逐日观测或几天次连续观测。
建筑物使用阶段的观测。
第年观测次,第二年观测次程建筑物施工阶段的观测。
应随施工进度及时进行,地下室封顶后观测次,以上部分每增加层观测次。
如果施工过程中出现暂时停工,在停工时及重新开工时各观测次,停工期间,可每隔个月观测次。
在施工过程中,如观测点的设置为了能够全面反映建筑物地基变形特征并结合地质情况及建筑物结构特点,确定在层建筑物外围混凝土柱上设置个沉降观测点。
观测点具体布置如下图沉降观测点观测水准点图例说明沉降观测点的测量过七建筑物的沉降观测根据规范规定,对于层以上或造型复杂的层以上的建筑物,应进行沉降观测,并应符合现行行业标准建筑变形测量规程的有关规定。
故根据本工程特点,须进行建筑物的沉降观测。
沉降竖直量取,且每栋建筑应由三处分别向上传递。
当三个点的标高差值小于时,应取其平均值否则应重新引测。
标高的竖向传递允许偏差应符合下表规定项目允许偏差每层总高差应为。
以下结构标高值待测楼层基准点标高值水准仪在钢尺读数水准仪在钢尺读数水准仪在塔尺读数水准仪在塔尺读数标高的竖向传递要求。
应从首层起始标高线细部尺寸线。
基础放线尺寸允许偏差如下表所示长度宽度允许偏差注轴线的对角线尺寸的允许偏差应为边长偏差的倍外廓轴线夹角的允许偏垫层清扫干净,利用地面上的轴线控制网进行地下室基础部分轴线的投测。
将仪器架设在控制桩位上,把控制轴线投测到作业面上,经检查无误,然后以控制线为基准,以设计图纸为依据,放样出其他轴线和柱边线洞口边线等以下施工测量平面放样测量基坑开挖线。
对于基坑开挖,首先根据轴线控制桩投测出建筑物的外墙轴线,然后根据开挖线与外墙轴线的尺寸关系放样出开挖线,并撒白灰线作为标志。
基础轴线投测。
待垫层浇筑完毕后,将基础位置,距离基坑边线大致在左右,可与建筑物些轴线控制点在同位置设置并进行保护,初步定出四个水准点,布设成闭合水准路线,其闭合差不应超过为测站数或为测线长度,以为单位。
五水准点的引测依据为业主和测绘部门指定的控制点,我方将采用指定控制点向施工现场内引测施工水准点的标高。
为保证建筑物竖向施工的精度要求及观测的方便,在现场内布设四个施工水准点。
水准点布设在通视良好的在轴轴轴轴轴轴轴轴轴轴轴布设轴线控制点,这样可以使各轴线既相互制约又相互联系,便于检查和复核。
轴线控制桩建筑物的沉降观测。
沉降观测点的设置为了能够全面反映建筑物地基变形特征并结合地质情况及建筑物结构特点,确定在层建筑物外围混凝土柱上设置个沉降观测点。
观测点具体布置如下图沉降观测点观测水准点图例说明沉降观测点的测量过程建筑物施工阶段的观测。
应随施工进度及时进行,地下室封顶后观测次,以上部分每增加层观测次。
如果施工过程中出现暂时停工,在停工时及重新开工时各观测次,停工期间,可每隔个月观测次。
在施工过程中,如果出现长时间连续降雨基础四周大量积水等情况应增加观测次数。
当建筑物突然发生大量沉降不均匀沉降或严重裂缝时,应立即进入逐日观测或几天次连续观测。
建筑物使用阶段的观测。
第年观测次,第二年观测次,第三年后每年观测次,直至稳定为止。
沉降是否进入稳定阶段,应由沉降量与时间关系曲线判定。
若沉降速度小于,可以认为已进入稳定阶段。
观测方法。
对于高层建筑的沉降观测,应采用精密水准仪用Ⅱ等水准测量方法往返观测,其误差不应超过为测战数,或为公里数。
为了保证观测精度,观测时视线长度般≯,前后视距离要尽量相等,可用皮尺丈量。
观测时先后视水准点,再依次前视各观测点,最后应再次后视水准点,前后两个后视读数之差不应超过。
八工程测量人员组织及设备配置人员组织所有测量工作严格按照国家工程测量规范和高层建筑混凝土结构技术规程的要求进行。
为更好地配合主体结构的施工,工程测量人员要熟悉各种测量仪器的操作,能够完成各种测量放线任务,了解自己的岗位职责,各人有不同的分工,对于轴线控制与高程控制等关键环节,责任到人,强调每个人的主观能动性,以便以更好的方法更高的精度完成测量放线任务。
设备配置编号设备名称精度指标数量用途全站仪台施工放样水准仪台标高控制钢尺把施工放样激光铅锤仪台内控点竖向传递双面塔尺把标高控制所有仪器设备都有有效的鉴定证书,仪器在日常使用过程中,定期对其进行检查保养,并做好记录。
九施工测量质保措施百年大计,质量第,而测量又是质量的关键环节,为保证测量成果的质量,制定以下措施测放负责人按施工进度和测量方案要求,安排现场测量放线工作,并作好施工测量日志。
方案测法要科学合理,重要的单位工程或部位的测量方案由测量负责人审批后方可实施。
现场使用的测量仪器设备应根据测量仪器使用管理办法的规定进行检校维护保养并作好记录,发现问题后立即将仪器设备送检。
本工程的测量放线了计算机的路与功能区做出来。
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。
这就是光刻的作用,类似照相机照发展第三章光刻的分类光学光刻电子束光刻聚焦粒子束光刻移相掩模射线光刻第四章总结与感谢二〇四年四月二十四日星期四正文第章绪论光刻的作用就是把芯片制作所需要的线二〇四年四月二十四日星期四编号第章绪论第二章,光刻的历史光科技束的诞生光科技束的发展初级阶段光刻发展历史的快速阶段十世纪光科技束的二〇四年四月二十四日星期四编号第章绪论第二章,光刻的历史光科技束的诞生光科技束的发展初级阶段光刻发展历史的快速阶段十世纪光科技束的发展第三章光刻的分类光学光刻电子束光刻聚焦粒子束光刻移相掩模射线光刻第四章总结与感谢二〇四年四月二十四日星期四正文第章绪论光刻的作用就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。
这就是光刻的作用,类似照相机照相。
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