KY39高密度积层印制电路板技术改造项目投资立项建议书模板.doc文档

特别是随着多芯片组装技术和倒装芯片技术应用，激光微细加工精度得到很好体现。

最小线宽线间距和最小孔径均可达到，钻通孔与盲孔控制是通过调节能量实现，向深度可精确控制。

项目技术可行性主要技术内容技术内容及产品内容制作高密度积层印制电路板，是利用感光性绝缘材料作为感光介质，先在完工双面核心板上涂布层，并针对特定孔位处加以显像。

使露出碗底所预留铜垫，即形成裸盲孔再以电镀铜进行全面加成，经选择性蚀刻后，便可以得到外层线路与盲导孔以双面核心制作节距大于板。

激光直接成像技术不需要照相底片，直接利用激光在专门感光膜上成像，通过激光使得液态抗蚀剂能够满足高能力和简化操作要求。

激光直接成像技术不仅不需要底片，避免了底片缺陷产生影响及修板，同时能直接采用，缩短了生产周期，适于批量生产。

目前，激光成像技术能够制作小于线路板。

高密度积层印制电路板发展趋势导电层趋于更薄化年端子间距手机主板普及，不仅使电路图形层填充导通孔手机主板。

表列出了项目产品国内外比较情况表项目产品国内外比较指标国内国外本项目线宽微米微米微米线距微米微米微米微米微米微米微米微米微米对产业发展作用与影响高密度积层印制电日本等生产厂家，采用铜电镀法来填充导通孔，也能制出全层填充导通孔构造多层板。

另外，日本ビクタ和ク口バ电子工业等厂家是使用全孔最早是在工艺法基础上制造而出这种全层填充导通孔构造多层板，目前生产厂有大日本印刷和松下电子部品等公司。

而发展到现在，采用铜电镀法形成填充导通孔手机生产厂家不断增加，如孔结构。

孔内用铜或导电膏进行填充，各层导通孔彼此之间相互叠加，通孔顶端形成凸点是可以直接接合元器件。

这种孔构造减小了导通孔在各个电路层面上所占面积，以及减少在整个多层板上所占三维空间。

在日本，填充导通更加多样化为缩小手机中面积并达到高密度布线，需要导通孔孔径孔间距孔上连接盘等尺寸进步减小。

适宜这种发展需求变化导通孔重要类型之，是采用填充导通家预测，在手机用板制造工艺方面，未来生产厂家采用半加成法生产手机主板和封装基板比例会进步增加，特别是在手机用基板实现以及更薄制造中会更加普遍化。

填充导通孔工艺法生产厂家则认为，采用减成法生产程度，已是此工艺法所能达到极限。

因此，今后基板若想在规模化生产中实现比现在更微细化电路图形，就需要改变图形形成法，采用半加成法，有关专手机制造厂家中，采用减成法有松下电子部品山梨松下电子公司为典型。

在日本，有些手机生产厂家采用减成法，并在大生产线上实现了。

但目前多数日本手机加工同时，形成薄导电层。

大日本印刷公司制作手机用主板采用这种工艺，使导电层厚度达到。

不采用铜箔即基板材料未覆铜箔作为导电层，而是通过在绝缘基材上进行全面电镀而形成比般铜箔更薄导电层。

在日本作，并在端子间距手机主板导电层厚度上有了新突破。

导电层更薄化实现，目前主要采用三种工艺对导电层进行全面蚀刻，将导电层减薄由于要实施微蚀加工，因而制造成本有所提高。

在对导通孔进行铜电镀度积层印制电路板发展趋势导电层趋于更薄化年端子间距手机主板普及，不仅使电路图形微细化板厚薄型化，而且导电层厚度也发生了新转变。

近年来许多厂家在该领域展开了研发工剂能够满足高能力和简化操作要求。

激光直接成像技术不仅不需要底片，避免了底片缺陷产生影响及修板，同时能直接采用，缩短了生产周期，适于批量生产。

目前，激光成像技术能够制作小于线路板。

高密形成裸盲孔再以电镀铜进行全面加成，经选择性蚀刻后，便可以得到外层线路与盲导孔以双面核心制作节距大于板。

激光直接成像技术不需要照相底片，直接利用激光在专门感光膜上成像，通过激光使得液态抗蚀加工同时，形成薄导电层。

大日本印刷公司制作手机用主板采用这种工艺，使导电层厚度达到。

不采用铜箔即基板材料未覆铜箔作为导电层，而是通过在绝缘基材上进行全面电镀而形成比般铜箔更薄导电层。

在日本作，并在端子间距手机主板导电层厚度上有了新突破。

导电层更薄化实现，目前主要采用三种工艺对导电层进行全面蚀刻，将导电层减薄由于要实施微蚀加工，因而制造成本有所提高。

在对导通孔进行铜电镀密度积层印制电路板，是利用感光性绝缘材料作为感光介质，先在完工双面核心板上涂布层，并针对特定孔位处加以显像。

使露出碗底所预留铜垫，即监控激光多功能微细线及钻孔加工设备主要解决是高密度细线和微孔加工难题。

特别是随着多芯片组装技术和倒装芯片技术应用，激光微细加工精度得到很好体现。

最小线宽线间距和最小孔径均可达到，钻通孔与盲孔控制是通过调节能量实现，向深度可精确控制。

项目技术可行性主要技术内容技术内容及产品内容制作高密度积层印制电路板，是利用感光性绝缘材料作为感光介质，先在完工双面核心板上涂布层，并针对特定孔位处加以显像。

使露出碗底所预留铜垫，即形成裸盲孔再以电镀铜进行全面加成，经选择性蚀刻后，便可以得到外层线路与盲导孔以双面核心制作节距大于板。

激光直接成像技术不需要照相底片，直接利用激光在专门感光膜上成像，通过激光使得液态抗蚀剂能够满足高能力和简化操作要求。

激光直接成像技术不仅不需要底片，避免了底片缺陷产生影响及修板，同时能直接采用，缩短了生产周期，适于批量生产。

目前，激光成像技术能够制作小于线路板。

高密度积层印制电路板发展趋势导电层趋于更薄化年端子间距手机主板普及，不仅使电路图形层填充导通孔手机主板。

表列出了项目产品国内外比较情况表项目产品国内外比较指标国内国外本项目线宽微米微米微米线距微米微米微米微米微米微米微米微米微米对产业发展作用与影响高密度积层印制电日本等生产厂家，采用铜电镀法来填充导通孔，也能制出全层填充导通孔构造多层板。

另外，日本ビクタ和ク口バ电子工业等厂家是使用全孔最早是在工艺法基础上制造而出这种全层填充导通孔构造多层板，目前生产厂有大日本印刷和松下电子部品等公司。

而发展到现在，采用铜电镀法形成填充导通孔手机生产厂家不断增加，如孔结构。

孔内用铜或导电膏进行填充，各层导通孔彼此之间相互叠加，通孔顶端形成凸点是可以直接接合元器件。

这种孔构造减小了导通孔在各个电路层面上所占面积，以及减少在整个多层板上所占三维空间。

在日本，填充导通度积层印制电路板发展趋势导电层趋于更薄化年端子间距手机主板普及，不仅使电路图形微细化板厚薄型化，而且导电层厚度也发生了新转变。

近年来许多厂家在该领域展开了研发工剂能够满足高能力和简化操作要求。

激光直接成像技术不仅不需要底片，避免了底片缺陷产生影响及修板，同时能直接采用，缩短了生产周期，适于批量生产。

目前，激光成像技术能够制作小于线路板。

高密形成裸盲孔再以电镀铜进行全面加成，经选择性蚀刻后，便可以得到外层线路与盲导孔以双面核心制作节距大于板。

激光直接成像技术不需要照相底片，直接利用激光在专门感光膜上成像，通过激光使得液态抗蚀加工同时，形成薄导电层。

大日本印刷公司制作手机用主板采用这种工艺，使导电层厚度达到。

不采用铜箔即基板材料未覆铜箔作为导电层，而是通过在绝缘基材上进行全面电镀而形成比般铜箔更薄导电层。

在日本作，并在端子间距手机主板导电层厚度上有了新突破。

导电层更薄化实现，目前主要采用三种工艺对导电层进行全面蚀刻，将导电层减薄由于要实施微蚀加工，因而制造成本有所提高。

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近年来许多厂家在该领域展开了研发工剂能够满足高能力和简化操作要求。

激光直接成像技术不仅不需要底片，避免了底片缺陷产生影响及修板，同时能直接采用，缩短了生产周期，适于批量生产。

目前，激光成像技术能够制作小于线路板。

高密形成裸盲孔再以电镀铜进行全面加成，经选择性蚀刻后，便可以得到外层线路与盲导孔以双面核心制作节距大于板。

激光直接成像技术不需要照相底片，直接利用激光在专门感光膜上成像，通过激光使得液态抗蚀密度积层印制电路板，是利用感光性绝缘材料作为感光介质，先在完工双面核心板上涂布层，并针对特定孔位处加以显像。

使露出碗底所预留铜垫，即密度积层印制电路板，是利用感光性绝缘材料作为感光介质，先在完工双面核心板上涂布层，并针对特定孔位处加以显像。

使露出碗底所预留铜垫，即，激光微细加工精度得到很好体现。

最小线宽线间距和最小孔径均可达到，钻通孔与盲孔控制是通过调节能量实现，向深度可精确控制。

项目技术可行性主要技术内容技术内容及产品内容制作高其它系统多机多抽式控制方式计算机多段温度多段压力自动程度监控激光多功能微细线及钻孔加工设备主要解决是高密度细线和微孔加工难题。

特别是随着多芯片组装技术和倒装芯片技术应用路板万平方米。

所选设备主要技术指标型真空层压机平台尺寸工作层数层电加热层油加热加热方式电热式热煤油加压蒸汽锅炉可选路板万平方米。

所选设备主要技术指标型真空层压机平台尺寸工作层数层电加热层油加热加热方式电热式热煤油加压蒸汽锅炉可选其它系统多机多抽式控制方式计算机多段温度多段压力自动程度监控激光多功能微细线及钻孔加工设备主要解决是高密度细线和微孔加工难题。

特别是随着多芯片组装技术和倒装芯片技术应用，激光微细加工精度得到很好体现。

最小线宽线间距和最小孔径均可达到，钻通孔与盲孔控制是通过调节能量实现，向深度可精确控制。

项目技术可行性主要技术内容技术内容及产品内容制作高密度积层印制电路板，是利用感光性绝缘材料作为感光介质，先在完工双面核心板上涂布层，并针对特定孔位处加以显像。

使露出碗底所预留铜垫，即形成裸盲孔再以电镀铜进行全面加成，经选择性蚀刻后，便可以得到外层线路与盲导孔以双面核心制作节距大于板。

激光直接成像技术不需要照相底片，直接利用激光在专门感光膜上成像，通过激光使得液态抗蚀剂能够