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年生产57000万片高效单晶硅片项目可研计划书.doc文档72页全套完整下载 年生产57000万片高效单晶硅片项目可研计划书.doc文档72页全套完整下载

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晶生长当硅熔体的温度稳定之后,将籽晶慢慢浸入硅熔体中, 然后将籽晶快速向上提升,使长成的籽晶的直径原料装入炉内抽真空和充氩气。 配料根据拉单晶的电阻率要求,按重量比例配置原料。 装炉将配好的 清洗用氢氟酸硝酸或中性清洗液等除去原料 单晶硅用于制造太阳电池片生产用的硅片。 技术来源 本项目生产技术为安徽天翊光能有限公司自有技术。 生产工艺 图单晶硅棒生产工艺流程图 选料 清洗 测试 断头尾 拆炉 拉晶 配料 装炉 入库 图单晶硅片生产工艺流程图 工艺简介 选料将多晶硅头尾料埚底料按类分选。装炉 入库 图单晶硅片生产工艺流程图 工艺简介 选料将多晶硅头尾料埚底料按类分选。 生产工艺 技术来源 本项目生产技术为安徽天翊光能有限公司自有技术。艺,最终产品为单晶硅。为,其余由安徽天翊光能有限公司自筹。 产品及技术方案 本项目主要考虑高性能的单晶硅生产工部分内容简介部分内容简介金万元其中铺底流动资金万元,流动资 金贷款,贷款利率为,其余由安徽天翊光能有限公司自筹。 产品及技术方案 本项目主要考虑高性能的单晶硅生产工艺,最终产品为单晶硅。 单晶硅用于制造太阳电池片生产用的硅片。 技术来源 本项目生产技术为安徽天翊光能有限公司自有技术。 生产工艺 图单晶硅棒生产工艺流程图 选料 清洗 测试 断头尾 拆炉 拉晶 配料 装炉 入库 图单晶硅片生产工艺流程图 工艺简介 选料将多晶硅头尾料埚底料按类分选。 清洗用氢氟酸硝酸或中性清洗液等除去原料表面的杂质。 配料根据拉单晶的电阻率要求,按重量比例配置原料。 装炉将配好的原料装入炉内抽真空和充氩气。 拉晶加温将原料溶化,按控制程序拉制单晶。 单晶生长当硅熔体的温度稳定之后,将籽晶慢慢浸入硅熔体中, 然后将籽晶快速向上提升,使长成的籽晶的直径缩小到定的大小,产 生零位错的晶体,这样,长完细颈之后,降低温度与拉速,使得晶体的 直径渐渐增长到所要大小。长完细颈和肩部之后,借着拉速与温度的不 断调整,可使晶棒直径误差维持在正负之间,这段直径固定的部分 称为等径部分,单晶硅片取自于等径部分。等径结束后,必须将晶棒的 直径慢慢缩小,直到成尖点,而与液面分开,长完的晶棒被升至上炉 室冷却段时间后取出,即完成了单晶硅棒的生长过程。 硅棒准备 圆棒切方 硅片清洗烘干 硅片脱胶取样 线锯切片 晶棒粘接 滚磨 准方棒腐蚀或超声清洗 成品测试入库 拆炉待炉温冷却后,将炉内坩埚及余料取出。 断头尾目的是切除单晶硅棒的头部尾部及超出客户规格的部分, 并将单晶硅棒分段成切片设备可以处理的长度。 测试取样测试氧碳含量及电阻率等。 圆棒切方滚磨将硅圆棒切成准四方型把四角的圆弧滚磨光滑。 超声波清洗将方棒清洗干净。 晶棒粘接将准方形的单晶硅棒粘接在专用工作台上。 线锯切片将工作台装到多线切片机上,多线切片机进行切片,切 片结束后,从多线切片机卸下工作台。 硅片脱胶取样从工作台通过脱胶取下硅片。 硅片清洗甩干清洗硅片并进行甩干。 样片测试测试合格,包装入库。 产品目标市场 本项目产品全部内销。 主要设备选型 主要设备仪器选择 本项目的工艺设备选型原则在保证产品质量和生产能力以及研究 发展的前提下,选择性价比高的工艺设备。 主要设备和仪器 本项目共需购置工艺及辅助设备仪器台套,共计万元。 其中进口设备仪器台套,进口费用万元国产设备仪器 台套,费用万元。详细各期设备清单如下 表期进口工艺设备仪器表 序 号设备名称 数 量 制造厂家及型 号单价万元总价万元 开方机 切片机日本 切片机日本 全自动硅片分选机 非接触电阻率测试仪 傅立叶红外光普仪 红外探伤仪 平面厚度仪 合计 表期国产工艺设备仪器表 序 号设备名称 数 量 制造厂家及型 号单价万元总价万元 打磨机 硅料清槽 泡料槽 气相光普分析仪 单晶炉 单晶带锯截断机 电阻率测试仪 型号测试仪 单晶少子寿命仪 晶相显微镜 倒角机 单晶辊磨机 废线切割机 砂浆搅拌桶 超声波清洗机 硅块脱胶槽 平板电炉 全自动脱胶机 全自动硅片清洗机 全自动插片机 型号测试仪 平面厚度仪 合计 表二期进口工艺设备仪器表 序 号设备名称 数 量 制造厂家及型 号单价万元总价万元 开方机 切片机 切片机 全自动硅片分选机 非接触电阻率测试仪 傅立叶红外光普仪 红外探伤仪 平面厚度仪 合计 表二期国产工艺设备仪器表 序 号设备名称 数 量 制造厂家及型 号单价万元总价万元 打磨机 硅料清槽 泡料槽 气相光普分析仪 单晶炉 单晶带锯截断机 电阻率测试仪 型号测试仪 单晶少子寿命仪 晶相显微镜 倒角机 单晶辊磨机 废线切割机 砂浆搅拌桶 超声波清洗机 硅块脱胶槽 平板电炉 全自动脱胶机 全自动硅片清洗机 全自动插片机 型号测试仪 平面厚度仪 合计 表三期进口工艺设备仪器表 序 号设备名称 数 量 制造厂家及型 号单价万元总价万元 开方机 切片机 切片机 全自动硅片分选机 非接触电阻率测试仪 傅立叶红外光普仪 红外探伤仪 平面厚度仪 合计 表三期国产工艺设备仪器表 序 号设备名称 数 量 制造厂家及型 号单价万元总价万元 打磨机 硅料清槽 泡料槽 气相光普分析仪 单晶炉 单晶带锯截断机 电阻率测试仪 型号测试仪 单晶少子寿命仪 晶相显微镜 倒角机 单晶辊磨机 废线切割机 砂浆搅拌桶 超声波清洗机 硅块脱胶槽 平板电炉 全自动脱胶机 全自动硅片清洗机 全自动插片机 型号测试仪 平面厚度仪 合计 配套工程设计方案 总平面布置 本项目采用次规划,分期实施的原则建设,总规划用地亩, 总建筑面积平方米。其中期工程用地亩,总建筑面将工作台装到多线切片机上,多线切片机进行切片, 切片结束后,从多线切片机卸下工作台。 硅片脱胶取样从工作台通过脱胶取下硅片。 硅片清洗甩干清洗硅片并进行甩干。 样片测试测试合格,包装入库。 污染物及其治理措施 主要产生污染的环节 废气 本项目产生废气主要为酸碱性废气普通废气和热废气。 单晶炉等使用电能作热源的设备需要排出热废气。 酸碱性废气主要是多晶硅料和单晶硅在各类酸和碱中进行化学清 洗工艺中产生,以酸性气体为主要成分,主要污染物有 少量乙醇等。 废水 生活污废水 职工洗手冲洗厕所时产生的部分生活污水。 生产废水 多晶硅料处理切断开方后的清洗等工艺中,对多晶料和单晶 硅通过少量乙醇等化学品进行腐蚀清洗,产生酸 碱废水氟废水。 冷却塔排污废水。 蒸汽凝结热废水。 纯水站内离子交换树脂用酸碱反冲再生后的冲洗水,含等 污染物。 废液 酸碱废液多晶硅料和单晶硅进行化学清洗工序中须使用 少量乙醇溶液,将分别产生低浓度废酸液和废碱液。 废液多晶硅料和单晶硅腐蚀等工艺都有使用溶液,使用 后的废液定期更换。 固废 员工生活垃圾。 多晶料处理过程中会产生多晶硅废料破废的坩埚,单晶硅生产 中会产生切割废料。 废水处理设施将产生的定量的污泥。 噪声 本项目噪声设备主要为生产设备水泵风机等,各类设备均安 装在车间或室内。 主要产生污染的环节 废气 本项目产生废气主要为普通废气热废气酸碱性废气。 普通废气和热废气为轻微污染,对人体危害小,可通过设置排风 系统直接排放。 酸碱性废气通过排气管送到废气洗涤塔处理,达到排放标准后排 放。各处污染物排放可以达到大气污染物综合排放标准 表中的二级标准,分别由高出屋面的高排气 筒排放。 废水 生活污废水系统 生活污水经厂区内的化粪池处理后,达级排放标准后排入厂 区污水管道,其他生活废水直接排入厂区内的污水管道,经汇集后排 入市政污水管网最终进入城市污水处理厂。 生产废水 排放标准其中氟含量低于国标污水综合排放标准 中第二类污染物最高允许排放浓度,其他污染物达到国标污 水综合排放标准中的新建厂房三级标准的要求。 本工程生产废水主要污染物为硅粉氟酸碱。分别经絮凝沉 淀与中和处理后排入市政污水管道系统。 含氟废水调节池次反应槽加次反应槽 加混凝剂次凝聚槽加混凝剂次沉淀槽二 次反应槽加二次反应槽加二次反应槽加混 凝剂二次凝聚槽加混凝剂二次沉淀槽收集水池 中和排放槽。 污泥污泥浓缩池上清液回流至含氟废水调节池污泥 泵板框压滤机滤液回流至含氟废水调节池泥饼含作 为特种垃圾由专业公司处理。 含酸碱废水调节池污水提升泵第中和槽第二中和 槽污水监测池若不达标,回流至调节池厂区污水管道。 纯水设备反洗排水除含酸碱废水排入酸碱废水处理系统直接 排入厂区污水管道。 冷却塔排污废水直接排入厂区污水管道。 蒸汽凝结水废水,在降温池内利用纯水站的浓水,使出水水温 降至以下,再排入厂区内的污水管道。 废液
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