1、“.....从而降低器件的迁移率。图是和处理的绝缘层表面的原子力显微镜三维形貌图。从图可以看出，处理的绝缘层表面比单层的绝缘层表面的平滑度更好，这与载流子迁移率的测定结果相致。图无处理的器件漏电流使用处理的器件漏电流图漏极电压下的对曲线漏极电压下的对曲线图的表面三维图像处理的的表面三维图像对于处理的性能提高的原因，方面，处理后改变了绝缘层表面蒸镀层的膜的生长性质，由于可以使的表面变成更加疏水的状态，降低了表面自由能，从而更有利于膜在基片上的吸附另方面......”。

2、“.....从而改善了绝缘性，降低了薄膜晶体管的漏电流处理为绝缘层提供了更为平滑的表面，降低了位于介面处的缺陷浓度，从而优化了薄膜的生长行为，使介面处分子排列更为有序，进而提高了场效应迁移率。结论制作了具有无机有机双绝缘层的。通过实验结果可以得出，经过修饰的绝缘层，表面光滑平整度好，降低了表面自由能，优化了薄膜的生长行为，用修饰过的双绝缘层制作的比未修饰的器件载流子迁移率提了倍，漏电流降低了个数量级......”。

3、“.....电流开关比从增大到，取得了不错的效果。参考文献翟和生含取代基的金属酞菁的合成与光电效应硕士论文厦门厦门大学化学系，查看详情李银艳芳基金属酞菁的合成与表征学位论文硕士高灵敏度高选择性气敏材料金属酞菁配合物左霞韦永德吴谊群哈尔滨工业大学应用化学系哈尔滨黑龙江大学功能材料实验室哈尔滨酞菁在分子材料器件方面的研究进展,陈仕艳刘云圻黄学斌邱文丰朱道本中国科学院化学研究所分子科学中心，北京和由方程估计晶格势研究型和型方式......”。

4、“.....目前发现共有种，主要是因为酞菁分子间的作用力较弱范德华力，从而使具有相似作用能的任何分子堆积形式成为可能。不同晶型酞菁颜色不同，酞菁晶体和各种晶型制备及晶型之间的转化酞菁晶体主要由四种方法制备，固相升华法电化学方法固相直接合成法和溶剂重结晶法。其性能不仅取决于分子组成包括金属中心，取代基的位置数量本性，还取决于分子排布定角度。对于铀酞菁由配位原子所形成的大环平面间距为如图，形成这类配合物般中心金属必须具有较高氧化态，价，同时金属离子半径应比酞菁环半径大......”。

5、“.....这类配合物的两个酞菁环异吲哚中的八个原子与中心金属形成八齿配合物。酞菁环并非呈平面，而是略向上凸出，并且两个酞菁环互相错开荷半径比较大的金属如，等形成的金属酞菁较难被质子酸取代并具较大热稳定性，这些配合物可通过真空升华或先溶于浓硫酸并在水中沉淀等方法进行纯化。区金属易形成夹心型金属酞菁......”。

6、“.....由电起着种模板作用。与配合物的经典合成方法相似，即先采用有机合成的方法制得并分离出自由的有机大环配体，然后再与金属离子配位，合成得到金属大环配合物。其中模板反应是主要的合成方法。金属酞菁配合物的合成物理化学性能。金属酞菁分子结构图金属酞菁的合成金属酞菁的合成般有以下两种方法通过金属模板反应来合成，即通过简单配体单元与中心金属离子的配位作用，然后再结合形成金属大环配合物......”。

7、“.....酞菁在通常的有机溶剂和水中溶解度小，这对于它们的应用产生了极大限制，不过这可以通过改变中心金属原子苯环周围引入不同的取代基和轴向引入不同配位基团来改变其溶解性及相关物线性光学方面也引起相当大的关注。酞菁在通常的有机溶剂和水中溶解度小，这对于它们的应用产生了极大限制，不过这可以通过改变中心金属原子苯环周围引入不同的取代基和轴向引入不同配位基团来改变其溶解性及相关物理化学性能。般酞菁化合物的热分解温度在以上，在有机溶剂中溶解度极小，并且几乎不溶于水......”。

8、“.....当时他们想研究邻氰基苯甲酰胺的化学性质......”。

9、“.....后来证实这就是酞菁。之后等人通过射线单晶衍射测定了酞普镍酞菁铜和酞菁铂，从而确定了酞菁的结构。金属酞菁射线分析表明酞菁是个大环化合物，环内有空穴见图，空穴的直径约为，可以容纳铁铜钴铝镍钙钠镁锌等多种金属和非金属元素。酞菁吸收光谱主要有两个吸收带，个在可见区带，另个在近紫外带。酞菁分子的结构使它具有非常稳定的特性，它耐酸耐碱耐水耐热耐光以及耐各种有机溶剂。般酞菁化合物的热分解温度在以上，在有机溶剂中溶解度极小，并且几乎不溶于水......”。